稀土掺杂铌酸锂晶体电光效应的实验研究
中文摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 铌酸锂晶体及其结构 | 第8-10页 |
1.1.1 概述 | 第8页 |
1.1.2 铌酸锂晶体结构 | 第8-10页 |
1.2 电光效应与电光系数 | 第10-11页 |
1.3 本论文的工作及意义 | 第11-12页 |
第二章 电光效应与光折变效应理论 | 第12-22页 |
2.1 铌酸锂晶体的电光效应 | 第12-19页 |
2.1.1 电光效应基本椭球理论 | 第12-15页 |
2.1.2 电光晶体的半波电压 | 第15页 |
2.1.3 铌酸锂晶体的电光系数 | 第15-19页 |
2.2 光折变效应理论 | 第19-22页 |
2.2.1 光折变效应的主要特征 | 第20页 |
2.2.2 光折变效应的物理机制 | 第20-22页 |
第三章 铌酸锂晶体掺杂及其缺陷结构分析 | 第22-31页 |
3.1 铌酸锂晶体的掺杂 | 第22-23页 |
3.2 铌酸锂晶体的缺陷结构 | 第23-28页 |
3.2.1 铌酸锂晶体的本征缺陷模型 | 第24-25页 |
3.2.2 铌酸锂晶体的非本征缺陷结构 | 第25-28页 |
3.3 [Li]/[Nb]对结构和性能的影响 | 第28-31页 |
第四章 测量干涉系统设计 | 第31-38页 |
4.1 马赫泽德干涉系统 | 第31-32页 |
4.2 光干涉基本概念 | 第32-35页 |
4.2.1 光干涉基本条件 | 第32-34页 |
4.2.2 干涉光束的分束方法 | 第34-35页 |
4.3 干涉图形的性质和特征 | 第35-38页 |
4.3.1 干涉条纹的可见度 | 第35-36页 |
4.3.2 无限宽条纹和有限宽条纹的调整 | 第36-38页 |
第五章 实验系统设计与搭建 | 第38-50页 |
5.1 样品处理 | 第38-43页 |
5.1.1 VTE 处理 | 第38-39页 |
5.1.2 抛光处理 | 第39-40页 |
5.1.3 测量样品折射率 | 第40-42页 |
5.1.4 镀铝膜电极 | 第42-43页 |
5.2 实验过程 | 第43-48页 |
5.2.1 搭建测量干涉系统 | 第44-45页 |
5.2.2 全波电压的测量 | 第45-48页 |
5.3 实验注意事项 | 第48-50页 |
第六章 实验结果与分析 | 第50-58页 |
6.1 实验结果 | 第50-55页 |
6.1.1 不同组份的纯铌酸锂晶体 | 第50-52页 |
6.1.2 稀土铒掺杂铌酸锂晶体 | 第52-53页 |
6.1.3 铒、镁共掺铌酸锂晶体 | 第53-55页 |
6.2 实验结果分析 | 第55-57页 |
6.2.1 铌酸锂晶体的组份效应 | 第55页 |
6.2.2 稀土铒掺杂铌酸锂晶体的结果分析 | 第55页 |
6.2.3 铒、镁共掺铌酸锂晶体的结果分析 | 第55-57页 |
6.3 实验误差分析 | 第57-58页 |
总结 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |