| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 光学薄膜的发展及应用 | 第8-9页 |
| 1.1.1 光学薄膜的发展 | 第8页 |
| 1.1.2 光学薄膜的应用 | 第8-9页 |
| 1.2 光学薄膜制造工艺 | 第9-15页 |
| 1.2.1 真空技术 | 第9-11页 |
| 1.2.2 成膜技术 | 第11-13页 |
| 1.2.3 膜厚监控技术 | 第13-14页 |
| 1.2.4 薄膜质量影响因素 | 第14-15页 |
| 1.2.5 光学薄膜从设计到制备过程 | 第15页 |
| 1.3 光学薄膜的缺陷研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4 本论文的研究背景、目的及内容 | 第16-19页 |
| 1.4.1 研究背景 | 第16-18页 |
| 1.4.2 研究目的及内容 | 第18-19页 |
| 第二章 红外膜中的膜裂缺陷 | 第19-32页 |
| 2.1 红外膜样品 | 第19-22页 |
| 2.1.1 样品介绍 | 第19页 |
| 2.1.2 出现的问题： | 第19-22页 |
| 2.1.2.1 光谱漂移 | 第20页 |
| 2.1.2.2 脱膜 | 第20-21页 |
| 2.1.2.3 膜裂 | 第21-22页 |
| 2.2 膜裂形成机理 | 第22-26页 |
| 2.2.1 薄膜应力研究 | 第22-23页 |
| 2.2.2 薄膜应力产生原因及影响 | 第23-26页 |
| 2.3 膜裂优化实验 | 第26-31页 |
| 2.3.1 分层褪火 | 第26-27页 |
| 2.3.2 不同温度下的膜裂对比 | 第27-28页 |
| 2.3.3 使用过渡层 | 第28-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 溅点节瘤缺陷 | 第32-45页 |
| 3.1 常见的溅点节瘤缺陷 | 第32-33页 |
| 3.2 溅点节瘤缺陷形成机理 | 第33-37页 |
| 3.3 溅点影响因素验证 | 第37-41页 |
| 3.3.1 原料对比实验 | 第37-39页 |
| 3.3.1.1 不同厂家（默克Merck、奥普Aopu）原料对比 | 第37-38页 |
| 3.3.1.2 同厂家不同批次膜料对比： | 第38-39页 |
| 3.3.2 膜料预熔 | 第39-40页 |
| 3.3.2.1 ：无预熔（挡板直接打开）、正常预熔结果对比 | 第39页 |
| 3.3.2.2 ：不同预熔参数结果对比： | 第39-40页 |
| 3.3.3 镀膜过程实际功率 | 第40-41页 |
| 3.4 溅点控制措施 | 第41-43页 |
| 3.4.1 原料 | 第41-42页 |
| 3.4.2 膜料预熔 | 第42-43页 |
| 3.4.3 镀膜过程 | 第43页 |
| 3.5 溅点控制效果 | 第43-44页 |
| 3.6 小结 | 第44-45页 |
| 第四章 块状及条状缺陷 | 第45-58页 |
| 4.1 块状缺陷 | 第45-46页 |
| 4.2 条状缺陷 | 第46-58页 |
| 4.2.1 P scratch 缺陷初期调查分析过程 | 第47-49页 |
| 4.2.1.1 P scratch与玻璃基片的相关性 | 第47-48页 |
| 4.2.1.2 离子源、卤钨灯相关性实验 | 第48-49页 |
| 4.2.1.3. 镀膜材料相关性实验 | 第49页 |
| 4.2.2 仪器测试分析 | 第49-50页 |
| 4.2.2.1 场发射扫描电子显微镜（FE SEM）测试 | 第49-50页 |
| 4.2.2.2 EDX分析结果 | 第50页 |
| 4.2.3 SiO_2 成膜机理探讨 | 第50-54页 |
| 4.2.3.1 薄膜生长模式 | 第51页 |
| 4.2.3.2 薄膜生长过程中的缺陷 | 第51-52页 |
| 4.2.3.3 SiO_2 的晶体结构 | 第52-53页 |
| 4.2.3.4 SiO_2 晶形 | 第53页 |
| 4.2.3.5 长条状P scratch形成原因 | 第53-54页 |
| 4.2.4 P scratch影响因素验证 | 第54-56页 |
| 4.2.4.1 不同批次SiO_2 材料的P scratch比例结果 | 第54页 |
| 4.2.4.2 不同预熔条件下的P scratch比例测试分析结果 | 第54-55页 |
| 4.2.4.3. SiO_2 极限沉积速率测试 | 第55-56页 |
| 4.2.5 P scratch控制措施及效果 | 第56-57页 |
| 4.2.5.1 P scratch控制措施 | 第56页 |
| 4.2.5.2 P scratch控制效果 | 第56-57页 |
| 4.2.6 小结 | 第57-58页 |
| 第五章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 总结 | 第58页 |
| 5.2 展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
