| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 1 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 菁染料的概述 | 第11-21页 |
| 1.2.1 菁染料的概念、结构以及分类 | 第11-13页 |
| 1.2.2 菁染料的合成 | 第13-21页 |
| 1.3 菁染料的性质 | 第21-23页 |
| 1.3.1 光谱性能 | 第21页 |
| 1.3.2 水溶性 | 第21-22页 |
| 1.3.3 稳定性 | 第22-23页 |
| 1.4 菁染料的应用 | 第23-26页 |
| 1.4.1 光谱增感剂 | 第24页 |
| 1.4.2 在光存储介质中的应用 | 第24-25页 |
| 1.4.3 生物分析 | 第25页 |
| 1.4.4 太阳能电池 | 第25页 |
| 1.4.5 测痕量无机离子或分子 | 第25-26页 |
| 1.4.6 菁染料在其他领域中的应用 | 第26页 |
| 1.5 荧光标记技术 | 第26页 |
| 1.6 课题研究背景和选题的依据 | 第26-28页 |
| 2 实验部分 | 第28-38页 |
| 2.1 反应试剂与实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.1.1 反应试剂 | 第28-29页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.2 水溶性对称吲哚方酸双菁染料的合成路线 | 第29-32页 |
| 2.2.1 水溶性吲哚季铵盐 (3)的合成路线 | 第29-30页 |
| 2.2.2 乙撑吲哚双季铵盐 (bis-3)的合成路线 | 第30页 |
| 2.2.3 乙撑吲哚方酸双半菁染料(bis-4)的合成路线 | 第30页 |
| 2.2.4 乙撑吲哚方酸双菁染料 (Esq)的合成路线 | 第30-31页 |
| 2.2.5 丁撑吲哚双季铵盐 (Fbis-3)的合成路线 | 第31页 |
| 2.2.6 丁撑吲哚方酸双半菁染料 (Fbis-4)的合成路线： | 第31页 |
| 2.2.7 丁撑吲哚方酸双菁染料 Bsq 的合成路线 | 第31-32页 |
| 2.3 水溶性吲哚方酸双菁染料的合成 | 第32-35页 |
| 2.3.1 水溶性吲哚中间体(1) 的合成 | 第32页 |
| 2.3.2 水溶性吲哚钾盐中间体 (2)的合成 | 第32页 |
| 2.3.3 水溶性中间体吲哚钾盐 (2) 的 N 烷基化 | 第32-33页 |
| 2.3.4 乙撑吲哚双季铵盐 (bis-3) 的合成 | 第33页 |
| 2.3.5 乙撑吲哚方酸双半菁染料 (bis-4) 的合成 | 第33-34页 |
| 2.3.6 乙撑吲哚方酸双菁染料 (Esq)的合成 | 第34页 |
| 2.3.7 2 ,3, 3–三甲基- 3 H-吲哚 (F_1) 的合成 | 第34页 |
| 2.3.8 丁撑吲哚双季铵盐(Fbis-3)的合成 | 第34页 |
| 2.3.9 丁撑吲哚方酸双半菁染料 (Fbis-4)的合成 | 第34页 |
| 2.3.10 丁撑吲哚方酸双菁染料 (Bsq)的合成 | 第34-35页 |
| 2.4 目标染料的分离提纯及结构鉴定 | 第35-36页 |
| 2.4.1 中间体双半菁染料的分离纯化 | 第35页 |
| 2.4.2 目标染料的分离纯化 | 第35-36页 |
| 2.4.3 目标染料的结构鉴定 | 第36页 |
| 2.5 目标染料的紫外–可见吸收光谱和荧光发射光谱的测定 | 第36-37页 |
| 2.6 目标染料的光稳定性测试 | 第37-38页 |
| 3 结果与讨论 | 第38-49页 |
| 3.1 水溶性方酸半菁染料的合成 | 第38-41页 |
| 3.1.1 水溶性中间体吲哚的合成 | 第38页 |
| 3.1.2 水溶性中间体吲哚钾盐的合成 | 第38-39页 |
| 3.1.3 水溶性中间体吲哚钾盐的 N 烷基化 | 第39页 |
| 3.1.4 非水溶性中间体吲哚的合成 | 第39页 |
| 3.1.5 吲哚双季铵盐的合成 | 第39-40页 |
| 3.1.6 吲哚方酸双半菁染料的合成 | 第40页 |
| 3.1.7 非水溶性半菁的水解及对反应的影响 | 第40-41页 |
| 3.2 吲哚方酸双菁染料的合成 | 第41页 |
| 3.3 染料的分离 | 第41-42页 |
| 3.3.1 吲哚方酸双半菁染料的提纯 | 第41页 |
| 3.3.2 水溶性吲哚方酸双菁染料的提纯 | 第41-42页 |
| 3.4 染料的结构表征 | 第42-43页 |
| 3.5 水溶性吲哚方酸双菁染料的光谱性能 | 第43-49页 |
| 3.5.1 乙撑吲哚方酸双菁染料( Esq )在不同溶剂中的光谱变化 | 第43-44页 |
| 3.5.2 乙撑吲 哚方酸双 菁染料(Esq) 染料的光 稳定性 | 第44-46页 |
| 3.5.3 丁撑 吲哚方 酸双菁 染料(Bsq)在不 同溶剂 中的光 谱变化 | 第46-47页 |
| 3.5.4 丁撑吲 哚方酸双 菁染料(Bsq) 染料的光 稳定性 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 附录 | 第53-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
