| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·纳米材料定义及分类 | 第9页 |
| ·纳米材料的特性及其应用 | 第9-12页 |
| ·模板法制备低维纳米材料 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第13-15页 |
| 参考文献 | 第15-19页 |
| 第二章 多孔氧化铝模板的制备与表征 | 第19-41页 |
| ·引言 | 第19-21页 |
| ·实验仪器、试剂和装置 | 第21-22页 |
| ·实验试剂 | 第21页 |
| ·实验仪器 | 第21页 |
| ·实验装置 | 第21-22页 |
| ·实验内容 | 第22页 |
| ·实验过程 | 第22-25页 |
| ·AAO模板的形成机理 | 第25-29页 |
| ·纳米孔的纵向生长过程 | 第25-26页 |
| ·纳米孔的自组织过程 | 第26-29页 |
| ·自组织模解释二次阳极氧化法制备高度有序纳米孔阵列 | 第29页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第29-37页 |
| ·扫描电镜对AAO模板表面形貌的表征 | 第29-34页 |
| ·氧化过程中电流随时间的的变化 | 第34-36页 |
| ·AAO模板的透光率和吸光率 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 第三章 在微米条纹上制备纳米孔阵列 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第41-42页 |
| ·实验仪器 | 第41-42页 |
| ·主要原料与试剂 | 第42页 |
| ·实验内容 | 第42页 |
| ·微米条纹上制备纳米孔阵列的制备工艺 | 第42页 |
| ·结果分析与讨论 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 以AAO为模板制备氧化铝纳米线 | 第47-57页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第48-49页 |
| ·实验仪器 | 第48页 |
| ·主要原料与试剂 | 第48-49页 |
| ·实验内容 | 第49页 |
| ·氧化铝纳米线的制备工艺 | 第49页 |
| ·结果分析与讨论 | 第49-53页 |
| ·氧化铝纳米线的SEM表征 | 第49-51页 |
| ·氧化铝纳米线成分的EDX表征 | 第51页 |
| ·氧化铝纳米线的X射线衍射分析 | 第51-52页 |
| ·ANWs薄膜生成机理的研究 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第五章 以AAO为模板制备PMMA纳米线和纳米柱阵列沟道 | 第57-71页 |
| ·引言 | 第57-59页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第59页 |
| ·实验仪器 | 第59页 |
| ·主要原料与试剂 | 第59页 |
| ·实验内容 | 第59-61页 |
| ·工艺流程 | 第59-61页 |
| ·样品表征 | 第61-65页 |
| ·制备的不同孔深的AAO模板表面形貌的SEM表征 | 第61-62页 |
| ·制备的PMMA纳米线表面形貌的SEM表征 | 第62-63页 |
| ·制备的PMMA纳米柱阵列的SEM表征 | 第63页 |
| ·制备的PMMA纳米柱阵列的EDX表征 | 第63-64页 |
| ·制备的PMMA纳米柱阵列的吸收谱和透射谱 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·总结 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |