摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
引言 | 第11-13页 |
1 硅纳米材料在国内外相关领域的研究进展 | 第13-31页 |
1.1 光催化污染控制的研究现状 | 第13-17页 |
1.1.1 光催化技术的原理及其研究现状 | 第13-14页 |
1.1.2 光催化技术存在的主要问题 | 第14-15页 |
1.1.3 光催化能量效率提高的途径 | 第15-17页 |
1.2 硅纳米材料的优势、主要问题及对策 | 第17-22页 |
1.2.1 硅纳米材料的优势 | 第17-19页 |
1.2.2 硅纳米材料存在的主要问题 | 第19-20页 |
1.2.3 硅纳米材料的保护方法 | 第20-22页 |
1.3 硅纳米材料制备方法 | 第22-25页 |
1.3.1 硅量子点制备方法 | 第22-23页 |
1.3.2 硅纳米线制备方法 | 第23-24页 |
1.3.3 硅纳米管制备方法 | 第24页 |
1.3.4 多孔硅制备方法 | 第24-25页 |
1.3.5 硅薄膜制备方法 | 第25页 |
1.4 硅纳米材料在环境及清洁能源领域中的应用 | 第25-27页 |
1.4.1 光催化降解污染物 | 第25-26页 |
1.4.2 光催化产氢 | 第26-27页 |
1.4.3 锂离子电池及生物燃料电池 | 第27页 |
1.5 异质结理论概述 | 第27-29页 |
1.5.1 异质结用于光催化的机理 | 第27-28页 |
1.5.2 异质结的类型 | 第28-29页 |
1.6 选题的背景、目的、内容和意义 | 第29-31页 |
1.6.1 选题的背景及目的 | 第29页 |
1.6.2 研究内容 | 第29-30页 |
1.6.3 研究意义 | 第30-31页 |
2 多级硅的制备及其光电催化性能 | 第31-42页 |
2.1 实验部分 | 第31-35页 |
2.1.1 实验试剂 | 第31页 |
2.1.2 实验仪器 | 第31-32页 |
2.1.3 实验材料 | 第32页 |
2.1.4 SiMP的制备 | 第32-33页 |
2.1.5 SiNW/SiMP的制备 | 第33-34页 |
2.1.6 SiNW/SiMP的表征 | 第34-35页 |
2.2 结果与讨论 | 第35-39页 |
2.2.1 SiNW/SiMP的形貌表征 | 第35-37页 |
2.2.2 光吸收性能表征 | 第37-38页 |
2.2.3 光电化学性质 | 第38-39页 |
2.3 光电催化降解实验 | 第39-41页 |
2.4 本章小结 | 第41-42页 |
3 Ag/SiNW/SiMP电极的制备及其光电催化脱氯性能 | 第42-56页 |
3.1 实验部分 | 第42-44页 |
3.1.1 实验试剂 | 第42页 |
3.1.2 实验仪器 | 第42-43页 |
3.1.3 制备过程 | 第43页 |
3.1.4 表征方法 | 第43-44页 |
3.2 结果与讨论 | 第44-47页 |
3.2.1 形貌观察 | 第44-45页 |
3.2.2 成分分析 | 第45-46页 |
3.2.3 光电化学性质测试 | 第46-47页 |
3.3 光电催化脱氯实验 | 第47-54页 |
3.3.1 光电催化性能 | 第47-52页 |
3.3.2 降解机理探讨 | 第52-54页 |
3.4 本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-64页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |