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纳米Ag修饰多级硅光电极的制备及其光电催化脱氯性能

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
引言第11-13页
1 硅纳米材料在国内外相关领域的研究进展第13-31页
    1.1 光催化污染控制的研究现状第13-17页
        1.1.1 光催化技术的原理及其研究现状第13-14页
        1.1.2 光催化技术存在的主要问题第14-15页
        1.1.3 光催化能量效率提高的途径第15-17页
    1.2 硅纳米材料的优势、主要问题及对策第17-22页
        1.2.1 硅纳米材料的优势第17-19页
        1.2.2 硅纳米材料存在的主要问题第19-20页
        1.2.3 硅纳米材料的保护方法第20-22页
    1.3 硅纳米材料制备方法第22-25页
        1.3.1 硅量子点制备方法第22-23页
        1.3.2 硅纳米线制备方法第23-24页
        1.3.3 硅纳米管制备方法第24页
        1.3.4 多孔硅制备方法第24-25页
        1.3.5 硅薄膜制备方法第25页
    1.4 硅纳米材料在环境及清洁能源领域中的应用第25-27页
        1.4.1 光催化降解污染物第25-26页
        1.4.2 光催化产氢第26-27页
        1.4.3 锂离子电池及生物燃料电池第27页
    1.5 异质结理论概述第27-29页
        1.5.1 异质结用于光催化的机理第27-28页
        1.5.2 异质结的类型第28-29页
    1.6 选题的背景、目的、内容和意义第29-31页
        1.6.1 选题的背景及目的第29页
        1.6.2 研究内容第29-30页
        1.6.3 研究意义第30-31页
2 多级硅的制备及其光电催化性能第31-42页
    2.1 实验部分第31-35页
        2.1.1 实验试剂第31页
        2.1.2 实验仪器第31-32页
        2.1.3 实验材料第32页
        2.1.4 SiMP的制备第32-33页
        2.1.5 SiNW/SiMP的制备第33-34页
        2.1.6 SiNW/SiMP的表征第34-35页
    2.2 结果与讨论第35-39页
        2.2.1 SiNW/SiMP的形貌表征第35-37页
        2.2.2 光吸收性能表征第37-38页
        2.2.3 光电化学性质第38-39页
    2.3 光电催化降解实验第39-41页
    2.4 本章小结第41-42页
3 Ag/SiNW/SiMP电极的制备及其光电催化脱氯性能第42-56页
    3.1 实验部分第42-44页
        3.1.1 实验试剂第42页
        3.1.2 实验仪器第42-43页
        3.1.3 制备过程第43页
        3.1.4 表征方法第43-44页
    3.2 结果与讨论第44-47页
        3.2.1 形貌观察第44-45页
        3.2.2 成分分析第45-46页
        3.2.3 光电化学性质测试第46-47页
    3.3 光电催化脱氯实验第47-54页
        3.3.1 光电催化性能第47-52页
        3.3.2 降解机理探讨第52-54页
    3.4 本章小结第54-56页
结论第56-57页
参考文献第57-64页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第64-65页
致谢第65-66页

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