| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 非晶态合金概述 | 第10-13页 |
| 1.1.1 非晶合金的研究进展 | 第10-12页 |
| 1.1.2 Zr-Al-Ni-Cu非晶合金体系的研究概况 | 第12-13页 |
| 1.1.3 非晶态合金的形成机制 | 第13页 |
| 1.2 非晶涂层的研究概况 | 第13-15页 |
| 1.3 电火花沉积技术概述 | 第15-19页 |
| 1.3.1 电火花沉积工艺的发展概况 | 第15-16页 |
| 1.3.2 电火花表面沉积原理 | 第16-17页 |
| 1.3.3 材料表面电火花沉积非晶涂层的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4 研究目的、意义及研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验材料、设备及方法 | 第20-26页 |
| 2.1 基体材料 | 第20-21页 |
| 2.2 电极材料 | 第21-23页 |
| 2.2.1 Zr基非晶合金电极的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 电极材料 | 第22-23页 |
| 2.3 涂层的制备 | 第23-24页 |
| 2.4 实验方法 | 第24-26页 |
| 2.4.1 沉积层厚度及质量分析 | 第24页 |
| 2.4.2 物相分析 | 第24页 |
| 2.4.3 沉积层组织结构及形貌分析 | 第24页 |
| 2.4.4 沉积层显微硬度测试 | 第24-25页 |
| 2.4.5 沉积层耐磨性测试 | 第25页 |
| 2.4.6 沉积层耐蚀性测试 | 第25-26页 |
| 第三章 电火花沉积Zr基非晶涂层的工艺优化 | 第26-41页 |
| 3.1 工艺参数对沉积层厚度的影响 | 第26-30页 |
| 3.1.1 电容对沉积层厚度的影响 | 第27-28页 |
| 3.1.2 电压对沉积层厚度的影响 | 第28-29页 |
| 3.1.3 频率对沉积层厚度的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 工艺参数对沉积层表面粗糙度的影响 | 第30-35页 |
| 3.2.1 电容对沉积层表面粗糙度的影响 | 第30-32页 |
| 3.2.2 电压对沉积层表面粗糙度的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.3 频率对沉积层表面粗糙度的影响 | 第34-35页 |
| 3.3 工艺参数对沉积层缺陷的影响 | 第35-40页 |
| 3.3.1 电容对沉积层缺陷的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.2 电压对沉积层缺陷的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.3 频率对沉积层缺陷的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 电火花沉积Zr基非晶涂层的组织结构及性能 | 第41-55页 |
| 4.1 Zr基非晶涂层物相分析 | 第41-42页 |
| 4.2 Zr基非晶涂层表面形貌分析 | 第42-44页 |
| 4.3 Zr基非晶涂层组织结构分析 | 第44-49页 |
| 4.3.1 组织结构 | 第44-47页 |
| 4.3.2 微区成分分析 | 第47-48页 |
| 4.3.3 界面分析 | 第48-49页 |
| 4.4 Zr基非晶涂层性能分析 | 第49-54页 |
| 4.4.1 显微硬度 | 第49-50页 |
| 4.4.2 摩擦磨损性能 | 第50-53页 |
| 4.4.3 腐蚀性能 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 电火花沉积WC-10Co硬质合金涂层的组织结构及性能 | 第55-66页 |
| 5.1 WC-10Co涂层制备工艺 | 第55页 |
| 5.2 WC-10Co涂层物相分析 | 第55-56页 |
| 5.3 WC-10Co涂层表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 5.4 WC-10Co涂层组织结构分析 | 第57-60页 |
| 5.5 WC-10Co涂层性能分析 | 第60-65页 |
| 5.5.1 显微硬度 | 第60-61页 |
| 5.5.2 摩擦磨损性能 | 第61-64页 |
| 5.5.3 腐蚀性能 | 第64-65页 |
| 5.6 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 电火花沉积Zr基非晶涂层的单脉冲温度场模拟 | 第66-81页 |
| 6.1 单脉冲电火花沉积温度场模拟的前处理 | 第66-72页 |
| 6.1.1 热分析模型的建立 | 第66-70页 |
| 6.1.2 热分析的数值模拟 | 第70-72页 |
| 6.2 单脉冲电火花沉积温度场模拟结果与分析 | 第72-79页 |
| 6.2.1 温度分布云图 | 第72-77页 |
| 6.2.2 温度场在放电过程中的变化 | 第77-79页 |
| 6.3 本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
