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硅改性氧化铝基质的合成与表征

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第10-28页
    1.1 引言第10页
    1.2 氧化铝概述第10-13页
        1.2.1 氢氧化铝第11-12页
        1.2.2 氧化铝第12页
        1.2.3 氧化铝与氢氧化铝之间的转化第12-13页
    1.3 γ- Al_2O_3的性质第13-18页
        1.3.1 γ- Al_2O_3的孔结构第13-16页
        1.3.2 γ- Al_2O_3的表面酸性第16-18页
    1.4 工业氧化铝的制备第18-21页
        1.4.1 醇铝水解法第18页
        1.4.2 酸碱沉淀法第18-19页
        1.4.3 碳化法第19页
        1.4.4 溶胶-凝胶法第19-20页
        1.4.5 有机溶剂合成法第20页
        1.4.6 过渡氧化铝再水化法第20页
        1.4.7 H_2O_2沉淀铝酸钠溶液法第20-21页
    1.5 氧化铝的改性研究第21-24页
        1.5.1 改变制备工艺第21页
        1.5.2 添加扩孔剂第21-22页
        1.5.3 助剂改性第22-24页
    1.6 国内外研究现状及存在的问题第24-26页
        1.6.1 国外相关产业和技术现状、发展趋势第24-26页
        1.6.2 国内相关产业和技术现状、发展趋势第26页
    1.7 本课题研究的目的和研究内容第26-28页
第二章 实验部分第28-34页
    2.1 实验原料及仪器设备第28页
    2.2 实验方案及步骤第28-30页
    2.3 实验装置第30-31页
        2.3.1 重油微反装置第30-31页
        2.3.2 水热老化装置第31页
    2.4 催化剂的表征方法第31-33页
        2.4.1 射线衍射分析(XRD)第31页
        2.4.2 N_2吸附-脱附分析第31页
        2.4.3 扫描电镜分析(SEM)第31-32页
        2.4.4 透射电子显微镜测试第32页
        2.4.5 傅里叶变换红外光谱(FTIR)第32页
        2.4.6 热重-差热分析(TG-DSC)第32页
        2.4.7 核磁共振分析(NMR)第32-33页
        2.4.8 X射线光电子能谱分析(XPS)第33页
        2.4.9 X射线荧光光谱分析(XRF)第33页
    2.5 催化裂化微反产物分析第33-34页
第三章 大孔容高比表面积拟薄水铝石的制备第34-48页
    3.1 温度对拟薄水铝石结构的影响第34-36页
    3.2 pH值对拟薄水铝石结构的影响第36-39页
    3.3 硅酸钠对拟薄水铝石结构的影响第39-41页
    3.4 pH值对硅酸钠改性拟薄水铝石结构的影响第41-42页
    3.5 铝的化学配位环境第42-43页
    3.6 拟薄水铝石焙烧后孔结构的研究第43-46页
    3.7 本章小结第46-48页
第四章 硅改性氧化铝基质的酸性调变及反应性能评价第48-72页
    4.1 前言第48页
    4.2 硅含量对于基质中原子化学环境及表面酸性的影响第48-55页
        4.2.1 硅含量对于基质晶体结构的影响第48-49页
        4.2.2 硅含量对于基质中铝的配位环境的影响第49-51页
        4.2.3 硅含量对于基质表面羟基的影响第51-52页
        4.2.4 不同硅含量的基质材料的表面酸性位的分析第52-55页
    4.3 成胶pH值对于基质中原子化学环境及表面酸性的影响第55-67页
        4.3.1 成胶pH值对于基质晶体结构的影响第55-56页
        4.3.2 成胶pH值对于基质中铝原子化学环境的影响第56-57页
        4.3.3 成胶pH值对于基质中硅原子化学环境的影响第57-59页
        4.3.4 成胶pH值对于基质表面羟基的影响第59-61页
        4.3.5 不同成胶pH值的基质材料的酸性位的分析第61-67页
    4.4 基质的酸性位结构分析第67-68页
    4.5 基质的酸性位的热稳定性分析第68-69页
    4.6 反应性能评价第69-71页
    4.7 小结第71-72页
结论第72-73页
参考文献第73-81页
攻读硕士学位期间取得的学术成果第81-82页
致谢第82页

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