摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 传统晶化过程 | 第11-15页 |
1.2.1 Kossel模型(台面-台阶-扭折模型) | 第11-12页 |
1.2.2 热力学/动力学控制 | 第12-14页 |
1.2.3 非约束条件下单晶生长 | 第14-15页 |
1.3 非传统晶化过程 | 第15-17页 |
1.3.1 介观晶体 | 第16-17页 |
1.3.2 逆向晶体生长 | 第17页 |
1.4 金红石晶体概述 | 第17-25页 |
1.4.1 金红石TiO_2结构 | 第18页 |
1.4.2 金红石TiO_2平衡形状 | 第18-20页 |
1.4.3 金红石TiO_2晶化机理研究进展 | 第20-25页 |
1.5 本论文研究内容 | 第25-28页 |
第二章 实验试剂与方法 | 第28-34页 |
2.1 实验试剂及实验仪器 | 第28-29页 |
2.2 材料的制备 | 第29页 |
2.2.1 曲面金红石型氧化钛晶体的制备 | 第29页 |
2.2.2 曲面氧化锡晶体的制备 | 第29页 |
2.3 材料的表征 | 第29-31页 |
2.3.1 X射线衍射 | 第29-30页 |
2.3.2 扫描电子显微镜 | 第30页 |
2.3.3 透射电子显微镜 | 第30页 |
2.3.4 X射线光电子能谱分析 | 第30页 |
2.3.5 紫外-可见光漫反射光谱分析(UV-vis) | 第30-31页 |
2.4 聚焦离子束微纳加工仪制备TEM样品 | 第31-34页 |
第三章 具有新型曲面的金红石氧化钛晶体的可控制备 | 第34-48页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 实验部分 | 第34-35页 |
3.2.1 金红石型曲面晶体的制备 | 第34-35页 |
3.3 表面形貌及结构表征 | 第35-39页 |
3.4 XPS和DFT计算 | 第39-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-48页 |
第四章 金红石晶体中存在的竞争生长现象 | 第48-60页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 实验方法 | 第48-49页 |
4.2.1 曲面金红石TiO_2晶体的制备 | 第48-49页 |
4.2.2 曲面金红石SnO_2晶体的制备 | 第49页 |
4.3 远偏离平衡生长vs平衡生长 | 第49-52页 |
4.3.1 X型生长区域边界 | 第49-50页 |
4.3.2 竞争生长动力学 | 第50-52页 |
4.4 三维空间中的竞争生长 | 第52-54页 |
4.4.1 曲面晶体其它部位截面形貌 | 第52-53页 |
4.4.2 两个竞争生长区域在三维空间上分布模型 | 第53-54页 |
4.5 竞争生长的开端以及机理解释 | 第54-58页 |
4.5.1 竞争生长的开端 | 第54-56页 |
4.5.2 竞争生长现象形成机理 | 第56-58页 |
4.6 曲面氧化锡晶体中的竞争生长现象 | 第58-59页 |
4.7 小结 | 第59-60页 |
第五章 金红石氧化钛介观晶体的生长初期观察 | 第60-68页 |
5.1 引言 | 第60-61页 |
5.2 实验方法 | 第61页 |
5.3 材料形貌与结构表征 | 第61-67页 |
5.4 本章小结 | 第67-68页 |
结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
个人简历 | 第80-82页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第82页 |