摘要 | 第6-8页 |
abstract | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 研究现状 | 第11-13页 |
1.3 研究内容 | 第13-16页 |
第二章 理论基础 | 第16-26页 |
2.1 基态密度泛函理论方法 | 第16-20页 |
2.1.1 Thomas-Fermi模型 | 第16-18页 |
2.1.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第18页 |
2.1.3 Kohn-Sham方程 | 第18-20页 |
2.2 近似密度泛函 | 第20-21页 |
2.2.1 局域密度近似(Local Density Approximation) | 第20-21页 |
2.2.2 广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation) | 第21页 |
2.3 平面波基组和赝势 | 第21-22页 |
2.4 Z_2拓扑不变量的计算 | 第22-26页 |
第三章 硅烯在Sc_2CF_2衬底上生长的电子特性研究 | 第26-36页 |
3.1 硅烯/Sc_2CF_2异质结的本征性质 | 第26-32页 |
3.2 平面应力与层间距对异质结性质的影响 | 第32-34页 |
3.3 硅烯/Sc_2CF_2异质结的费米速度与有效质量的研究 | 第34-35页 |
3.4 本章小结 | 第35-36页 |
第四章 甲基修饰锡烯的量子性质调控 | 第36-46页 |
4.1 甲基吸附锡烯的本征性质的研究 | 第36-38页 |
4.2 双轴应力诱导的拓扑态过渡的研究 | 第38-44页 |
4.3 本章小结 | 第44-46页 |
第五章 功能化修饰的铅烯量子性质的调控 | 第46-56页 |
5.1 氢以及卤素原子修饰的铅烯本征拓扑性质的研究 | 第46-53页 |
5.2 双轴应力对PbX薄膜拓扑性质的调控 | 第53-55页 |
5.3 本章小结 | 第55-56页 |
第六章 氰基修饰的铅烯量子性质的调控 | 第56-64页 |
6.1 氰基官能团修饰的铅烯的本征拓扑性质的研究 | 第56-61页 |
6.2 不同的化学基团与施加双轴应力对拓扑性质的影响 | 第61-63页 |
6.3 本章小结 | 第63-64页 |
第七章 结论与展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
附录 | 第74页 |