| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 离子印迹聚合物的研究概论 | 第10-20页 |
| 1 离子印迹技术的基本原理与方法 | 第10-14页 |
| 1.1 离子印迹的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.2 离子印迹的基本方法 | 第11-14页 |
| 2 离子印迹技术的应用 | 第14-16页 |
| 3 本论文的研究目的、意义及内容 | 第16-20页 |
| 第二章 镨(Ⅲ)与功能单体的相互作用研究 | 第20-26页 |
| 1 引言 | 第20-21页 |
| 2 实验部分 | 第21页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第21页 |
| 2.2 实验方法 | 第21页 |
| 3 结果与讨论 | 第21-25页 |
| 4 结论 | 第25-26页 |
| 第三章 沉淀聚合法制备Pr(Ⅲ)离子印迹聚合物的研究 | 第26-44页 |
| 1 引言 | 第26页 |
| 2 实验部分 | 第26-30页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第26-27页 |
| 2.2 实验方法 | 第27-30页 |
| 2.2.1 Pr(Ⅲ)的荧光光度法测定 | 第27页 |
| 2.2.2 Pr(Ⅲ)离子印迹聚合物(IIP)和非印迹聚合物(NIP)的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 聚合物的平衡吸附实验 | 第28-29页 |
| 2.2.4 Pr(Ⅲ)离子印迹固相萃取实验 | 第29-30页 |
| 3 结果与讨论 | 第30-42页 |
| 3.1 沉淀聚合法制备Pr(Ⅲ)离子印迹聚合物的条件优化 | 第30-32页 |
| 3.1.1 功能单体种类的优化 | 第30-31页 |
| 3.1.2 功能单体用量的优化 | 第31-32页 |
| 3.1.3 交联剂用量的优化 | 第32页 |
| 3.2 几种聚合方法所合成的印迹聚合物的比较 | 第32-33页 |
| 3.3 印迹聚合物IIP42和非印迹聚合物NIIP42的吸附特性研究 | 第33-35页 |
| 3.3.1 IIP42和NIP42的等温吸附曲线与Scatchard曲线 | 第33-35页 |
| 3.3.2 聚合物Pr-IIP42和NIP42的吸附动力学曲线 | 第35页 |
| 3.4 聚合物IIP41和NIP41的形貌与结构表征 | 第35-37页 |
| 3.5 Pr-IIP42在固相萃取中的应用研究 | 第37-42页 |
| 3.5.1 样品溶液pH值对固相萃取效果的影响 | 第37-38页 |
| 3.5.2 固相萃取仪转速对固相萃取效果的影响 | 第38页 |
| 3.5.3 样品溶液的上样体积对固相萃取效果的影响 | 第38-39页 |
| 3.5.4 柱子的最大负载量测定 | 第39页 |
| 3.5.5 非特异性淋洗剂pH值对固相萃取效果的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.6 特异性洗脱溶剂的pH值对固相萃取效果的影响 | 第40-42页 |
| 4 结论 | 第42-44页 |
| 第四章 壳聚糖表面印迹技术制备Pr(Ⅲ)离子印迹微球的研究 | 第44-56页 |
| 1 引言 | 第44-45页 |
| 2 实验部分 | 第45-47页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第45页 |
| 2.2 实验方法 | 第45-47页 |
| 2.2.1 离子印迹壳聚糖聚合物微球(CTS-IIP)和非印迹聚合物微球(NIP)的制备 | 第45-46页 |
| 2.2.2 聚合物的平衡吸附实验 | 第46-47页 |
| 2.2.3 洗脱与再生 | 第47页 |
| 3 结果与讨论 | 第47-55页 |
| 3.1 PR(Ⅲ)离子印迹壳聚糖聚合物微球(CTS-IIP)合成条件的优化 | 第47-50页 |
| 3.2 优化所得聚合物微球CTS-IIP16及CTS-NIP16的吸附特性研究 | 第50-52页 |
| 3.3 CTS-IIP16和CTS-NIP16的形貌和孔结构表征 | 第52-53页 |
| 3.4 CTS-IIP16的应用研究 | 第53-55页 |
| 4 结论 | 第55-56页 |
| 第五章 基于纳米TIO_2的Pr(Ⅲ)离子表面印迹聚合物的研究 | 第56-70页 |
| 1 引言 | 第56-57页 |
| 2 实验部分 | 第57-58页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第57页 |
| 2.2 实验方法 | 第57-58页 |
| 2.2.1 Pr(Ⅲ)-TiO_2表面印迹聚合物(T-IIP)及非印迹聚合物(NIP)的制备 | 第57-58页 |
| 2.2.2 聚合物的平衡吸附实验 | 第58页 |
| 2.2.3 Pr(Ⅲ)离子印迹固相萃取实验 | 第58页 |
| 3 结果与讨论 | 第58-69页 |
| 3.1 Pr(Ⅲ)-TIO_2表面印迹聚合物合成条件的优化 | 第58-60页 |
| 3.1.1 功能单体AAA用量的优化 | 第58-59页 |
| 3.1.2 纳米TiO_2用量的优化 | 第59-60页 |
| 3.1.3 交联剂EGDMA用量的优化 | 第60页 |
| 3.2 表面印迹聚合物T-IIP33和非印迹聚合物NIP33的吸附特性研究 | 第60-62页 |
| 3.2.1 T-IIP33和NIP33的等温吸附曲线与Scatchard曲线 | 第60-62页 |
| 3.2.2 聚合物T-IIP33和NIP33的吸附动力学曲线 | 第62页 |
| 3.3 聚合物T-IIP33和NIP33的形貌和孔结构表征 | 第62-64页 |
| 3.4 T-IIP33在固相萃取中的应用研究 | 第64-69页 |
| 3.4.1 样品溶液pH值对固相萃取效果的影响 | 第64页 |
| 3.4.2 固相萃取仪转速对固相萃取效果的影响 | 第64-65页 |
| 3.4.3 样品溶液的体积对固相萃取效果的影响 | 第65-66页 |
| 3.4.4 柱子最大负载量的测定 | 第66-67页 |
| 3.4.5 非特异性淋洗剂pH值对固相萃取效果的影响 | 第67-68页 |
| 3.4.6 特异性洗脱溶剂对固相萃取效果的影响 | 第68-69页 |
| 4 结论 | 第69-70页 |
| 第六章 不同方法制备的印迹聚合物的性能比较 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
