摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 文献综述及选题 | 第11-33页 |
1.1 选题背景 | 第11页 |
1.2 DMC概述 | 第11-13页 |
1.2.1 DMC的物理性质 | 第11-13页 |
1.2.2 DMC的化学性质 | 第13页 |
1.3 DMC合成工艺 | 第13-16页 |
1.3.1 甲醇液相氧化羰基化法 | 第14-15页 |
1.3.2 气相间接法 | 第15页 |
1.3.3 气相直接法 | 第15页 |
1.3.4 DMC产业现状 | 第15-16页 |
1.4 甲醇气相氧化羰基化法催化剂 | 第16-21页 |
1.4.1 含氯催化剂 | 第16-20页 |
1.4.2 无氯催化剂 | 第20-21页 |
1.5 微波辅助催化剂制备 | 第21-24页 |
1.5.1 微波 | 第21-22页 |
1.5.2 微波效应 | 第22-23页 |
1.5.3 微波改性负载型催化剂 | 第23-24页 |
1.6 本文研究思路和内容 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-33页 |
第二章 实验部分 | 第33-43页 |
2.1 实验原料及仪器 | 第33-36页 |
2.1.1 实验原料 | 第33-34页 |
2.1.2 实验仪器 | 第34-36页 |
2.2 表征方法 | 第36-37页 |
2.2.1 X-射线衍射分析(XRD) | 第36页 |
2.2.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第36页 |
2.2.3 比表面积测定(BET) | 第36页 |
2.2.4 程序升温还原(H_2-TPR)测试 | 第36页 |
2.2.5 扫描电镜(SEM) | 第36-37页 |
2.3 催化剂活性评价 | 第37-43页 |
2.3.1 反应装置 | 第37-38页 |
2.3.2 色谱分析 | 第38-39页 |
2.3.3 数据处理 | 第39-43页 |
第三章 微波辐射法制备Cu/AC催化剂的结构及反应活性 | 第43-63页 |
3.1 引言 | 第43-44页 |
3.2 催化剂制备 | 第44页 |
3.2.1 样品制备 | 第44页 |
3.2.2 微波处理 | 第44页 |
3.3 催化剂活性评价 | 第44页 |
3.4 制备条件的选择与优化 | 第44-48页 |
3.4.1 真空度 | 第44-45页 |
3.4.2 负载方式 | 第45-46页 |
3.4.3 负载量 | 第46-48页 |
3.5 处理温度对催化剂结构与性能的影响 | 第48-55页 |
3.5.1 活性测试结果 | 第48-49页 |
3.5.2 XRD表征 | 第49-50页 |
3.5.3 H_2-TPR表征 | 第50-52页 |
3.5.4 XPS表征 | 第52-54页 |
3.5.5 SEM表征 | 第54-55页 |
3.5.6 结论 | 第55页 |
3.6 催化作用机理分析 | 第55-58页 |
3.6.1 XPS表征 | 第56-57页 |
3.6.2 SEM表征 | 第57-58页 |
3.7 小结 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
第四章 甲醇气相氧化羰基化反应工艺条件优化 | 第63-75页 |
4.1 引言 | 第63-64页 |
4.2 催化剂制备 | 第64页 |
4.3 催化剂活性评价 | 第64页 |
4.4 艺条件对甲醇氧化羰基化性能的影响 | 第64-71页 |
4.4.1 空速 | 第64-65页 |
4.4.2 反应温度 | 第65-66页 |
4.4.3 反应压力的影响 | 第66-67页 |
4.4.4 进料比的影响 | 第67-71页 |
4.5 小结 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-75页 |
第五章 La、Zr助剂对Cu/AC催化剂活性的影响 | 第75-87页 |
5.1 引言 | 第75页 |
5.2 催化剂制备 | 第75-76页 |
5.3 活性评价 | 第76页 |
5.4 活性评价结果 | 第76-77页 |
5.5 结构表征 | 第77-84页 |
5.5.1 XRD | 第77-78页 |
5.5.2 H_2-TPR | 第78-79页 |
5.5.3 XPS | 第79-81页 |
5.5.4 SEM | 第81-84页 |
5.6 小结 | 第84-85页 |
参考文献 | 第85-87页 |
第六章 总结与建议 | 第87-89页 |
6.1 总结 | 第87-88页 |
6.2 建议 | 第88-89页 |
致谢 | 第89-91页 |
在读期间发表论文 | 第91页 |