| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 酞菁 | 第8-15页 |
| 1.2.1 酞菁的结构和性质 | 第8-9页 |
| 1.2.2 酞菁的合成 | 第9-10页 |
| 1.2.3 酞菁的应用 | 第10-15页 |
| 1.3 共轭微孔聚合物 | 第15-24页 |
| 1.3.1 共轭微孔聚合物的合成 | 第15-16页 |
| 1.3.2 共轭微孔聚合物的应用 | 第16-22页 |
| 1.3.3 基于金属酞菁或金属卟啉骨架结构的多孔有机催化材料 | 第22-24页 |
| 1.4 本论文的研究目的和意义 | 第24-25页 |
| 第二章 实验试剂及仪器 | 第25-28页 |
| 2.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.3 测试表征方法 | 第26-27页 |
| 2.4 催化剂对RhB溶液的可见光催化降解实验过程 | 第27-28页 |
| 第三章 钴酞菁基共轭微孔聚合物的合成及其光催化性能研究 | 第28-42页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 实验部分 | 第28-30页 |
| 3.2.1 实验路线 | 第28页 |
| 3.2.2 四硝基钴酞菁（CoPc(NO_2)_4）的合成 | 第28-29页 |
| 3.2.3 四氨基钴酞菁（CoPc(NH_2)_4）的合成 | 第29页 |
| 3.2.4 钴酞菁基共轭微孔聚合物（CoPc-CMPs）的合成 | 第29-30页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第30-37页 |
| 3.3.1 傅里叶变换红外光谱（FT-IR）分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 核磁共振氢谱（1H NMR）分析 | 第31-33页 |
| 3.3.3 紫外-可见吸收光谱（UV-vis）分析 | 第33-34页 |
| 3.3.4 荧光发射光谱分析 | 第34-35页 |
| 3.3.5 X射线衍射光谱（XRD）分析 | 第35-36页 |
| 3.3.6 热重（TG）分析 | 第36页 |
| 3.3.7 比表面积和孔径分布分析 | 第36-37页 |
| 3.3.8 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）图分析 | 第37页 |
| 3.4 钴酞菁基共轭微孔聚合物（CoPc-CMPs）的可见光催化性能研究 | 第37-40页 |
| 3.4.1 可见光下CoPc-CMPs催化降解RhB溶液 | 第37-38页 |
| 3.4.2 CoPc-CMPs用量对光催化降解RhB溶液的影响 | 第38-39页 |
| 3.4.3 H2O2用量对CoPc-CMPs光催化降解RhB溶液的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.4 CoPc-CMPs的稳定性 | 第40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 铜酞菁基共轭微孔聚合物的合成及其光催化性能研究 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 4.2.1 实验路线 | 第42页 |
| 4.2.2 四硝基铜酞菁（CuPc(NO_2)_4）的合成 | 第42-43页 |
| 4.2.3 四氨基铜酞菁（CuPc(NH_2)_4）的合成 | 第43页 |
| 4.2.4 铜酞菁基共轭微孔聚合物（CuPc-CMPs）的合成 | 第43-44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
| 4.3.1 傅里叶变换红外光谱（FT-IR）分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 紫外-可见吸收光谱（UV-vis）分析 | 第45-46页 |
| 4.3.3 荧光发射光谱分析 | 第46-47页 |
| 4.3.4 X射线衍射光谱（XRD）分析 | 第47-48页 |
| 4.3.5 热重（TG）分析 | 第48页 |
| 4.4 铜酞菁基共轭微孔聚合物（CuPc-CMPs）的可见光催化性能研究 | 第48-53页 |
| 4.4.1 可见光下CuPc-CMPs催化降解RhB溶液 | 第48-49页 |
| 4.4.2 CuPc-CMPs用量对光催化降解RhB溶液的影响 | 第49-50页 |
| 4.4.3 H_2O_2用量对CuPc-CMPs光催化降解RhB溶液的影响 | 第50-51页 |
| 4.4.4 CuPc-CMPs的稳定性 | 第51-52页 |
| 4.4.5 不同中心金属离子的催化剂对RhB溶液光催化降解的影响 | 第52页 |
| 4.4.6 可能的降解机理 | 第52-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
