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GTEM Cell临界频率和高阶模成因的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第一章 绪论第14-26页
    1.1 研究背景第14-17页
    1.2 研究现状第17-23页
        1.2.1 GTEM cell的应用第17-19页
        1.2.2 特性阻抗研究第19-20页
        1.2.3 场均匀性研究第20-22页
        1.2.4 高阶模研究第22-23页
    1.3 本文主要研究内容第23-26页
第二章 基本理论和研究方法第26-44页
    2.1 工程材料介电参数理论第26-32页
        2.1.1 电介质极化第26-28页
        2.1.2 电介质损耗第28-30页
        2.1.3 束缚电子的介电函数模型第30-31页
        2.1.4 介电函数的德拜方程第31-32页
    2.2 微波传输线理论第32-35页
        2.2.1 均匀传输线方程第32-35页
        2.2.2 传输线工作参数第35页
    2.3 有限积分法第35-40页
        2.3.1 麦克斯韦方程第36页
        2.3.2 Yee网格第36-37页
        2.3.3 麦克斯韦积分方程离散化第37-38页
        2.3.4 稳定性判据和数值色散第38-39页
        2.3.5 边界条件和激励源第39-40页
    2.4 GTEM cell性能测试方法第40-43页
        2.4.1 GTEM cell时域特性阻抗测试方法第40-41页
        2.4.2 GTEM cell电压驻波比测试方法第41页
        2.4.3 GTEM cell场均匀性测试和评价方法第41-43页
    2.5 本章小结第43-44页
第三章 角锥泡沫吸波材料复介电常数的传输/反射法第44-58页
    3.1 同轴传输/反射法基本原理第44-46页
    3.2 测试夹具设计及测试装置校准第46-48页
    3.3 传播常数多值问题分析第48-50页
    3.4 厚度谐振问题分析第50-53页
    3.5 泡沫吸波材料复介电常数测试第53-55页
    3.6 测试夹具的改进第55-56页
    3.7 本章小结第56-58页
第四章 电磁兼容吸波材料的建模与仿真第58-70页
    4.1 电磁兼容吸波材料介绍第58-59页
    4.2 建模仿真基本原理和流程第59-61页
    4.3 同轴测试装置模型第61-62页
    4.4 仿真参数验证第62-64页
        4.4.1 仿真终止频率第62-63页
        4.4.2 测试装置高度第63-64页
        4.4.3 网格数设置第64页
    4.5 吸波材料建模仿真第64-67页
        4.5.1 铁氧体瓦建模仿真第64-66页
        4.5.2 角锥泡沫吸波材料建模仿真第66-67页
    4.6 本章小结第67-70页
第五章 GTEM cell复合终端对其临界频率点的影响第70-92页
    5.1 复合终端设计原理第71-72页
    5.2 高频匹配终端设计第72-81页
        5.2.1 理论分析及仿真模型第72-74页
        5.2.2 几何参数影响第74-75页
        5.2.3 电磁参数影响第75-77页
        5.2.4 介质均匀性影响第77-81页
    5.3 低频匹配终端设计第81-85页
        5.3.1 理论分析及仿真模型第81-83页
        5.3.2 电阻网板模型检验第83-84页
        5.3.3 几何参数影响第84-85页
    5.4 复合终端参数优化第85-89页
    5.5 本章小结第89-92页
第六章 GTEM cell高阶模成因及场均匀性分析第92-118页
    6.1 复合终端对高阶模的影响第92-96页
        6.1.1 TM模的激励第92-93页
        6.1.2 TM模的衰减第93-94页
        6.1.3 仿真验证第94-96页
    6.2 高频接头对高阶模的影响第96-98页
    6.3 EUT对高阶模的影响第98-101页
        6.3.1 TE模的激励第98页
        6.3.2 仿真验证第98-101页
    6.4 仿真分析GTEM cell场分布第101-109页
        6.4.1 后测试区场分布第101-104页
        6.4.2 前测试区场分布第104-106页
        6.4.3 纵向场均匀性分析第106-107页
        6.4.4 EUT对场分布的影响第107-109页
    6.5 GTEM cell性能测试第109-110页
        6.5.1 时域特性阻抗测试第109-110页
        6.5.2 电压驻波比测试第110页
    6.6 GTEM cell场均匀性测试及评价第110-116页
        6.6.1 测试方案第110-111页
        6.6.2 有效测试区域划分第111-112页
        6.6.3 IEC 61000-4-20场均匀性校准方法第112-114页
        6.6.4 测试结果及评价第114-116页
    6.7 本章小结第116-118页
第七章 总结与展望第118-122页
    7.1 本文主要研究结论第118-120页
    7.2 本文主要创新点第120-121页
    7.3 工作展望第121-122页
致谢第122-124页
参考文献第124-138页
博士期间科研成果第138页

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