摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-40页 |
1.1 课题研究的背景和意义 | 第12-13页 |
1.2 高分子共聚物的结晶机理 | 第13-15页 |
1.3 聚合物的结晶结晶动力学 | 第15-18页 |
1.4 聚 3-羟基丁酸酯的研究进展 | 第18-21页 |
1.5 高分子共混物的研究进展 | 第21-24页 |
1.6 聚 3-羟基丁酸酯微纳米结构构筑的理论基础 | 第24-29页 |
1.6.1 受限条件下的聚合物取向结晶 | 第25-26页 |
1.6.2 高分子晶片的取向结构 | 第26页 |
1.6.3 受限压印条件下的晶体取向 | 第26-29页 |
1.7 原子力显微镜(AFM)的介绍及研究进展 | 第29-31页 |
1.8 本论文的创新点 | 第31-32页 |
参考文献 | 第32-40页 |
第二章 实验部分 | 第40-43页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第40页 |
2.2 共混体系的制备 | 第40-41页 |
2.3 PHB的微米结构的构筑 | 第41页 |
2.4 ZEISS偏光显微镜(POM) | 第41页 |
2.5 原子力显微镜(AFM) | 第41-42页 |
2.6 广角X-衍射(WAXD) | 第42-43页 |
第三章 聚 3-羟基丁酸酯(PHB)在共混体系中的受限结晶 | 第43-54页 |
3.1 共混体系的研究背景 | 第43页 |
3.2 共混体系的相容性研究 | 第43-44页 |
3.3 PHB/PES/PVPH共混体系结晶形态 | 第44-47页 |
3.4 PHB在贯穿结晶中的受限生长AFM机理研究 | 第47-52页 |
3.5 本章总结 | 第52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
第四章 聚 3-羟基丁酸酯在微米受限条件下的结构和形态 | 第54-68页 |
4.1 前沿 | 第54页 |
4.2 聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板的AFM表征 | 第54-56页 |
4.3 聚 3-羟基丁酸酯在微米受限条件下的结构和形态研究 | 第56-61页 |
4.3.1 聚 3-羟基丁酸酯在不同的薄膜厚度下的生长 | 第56-57页 |
4.3.2 聚 3-羟基丁酸酯的不同薄膜厚度的微米结构的构筑及其表征 | 第57-61页 |
4.4 聚 3-羟基丁酸酯的微米结构的构筑对熔点的影响 | 第61-65页 |
4.5 本章小结 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第五章 结论 | 第68-70页 |
硕士期间已发表和待发表的会议及学术论文 | 第70-71页 |
致谢 | 第71页 |