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(C_f-SiC_f)/SiBCN陶瓷与Nb连接工艺及机理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-24页
    1.1 课题背景和研究意义第9-11页
    1.2 SiBCN陶瓷的制备和组织性能特点第11-14页
        1.2.1 SiBCN的制备方法第11-12页
        1.2.2 SiBCN的组织特征第12-14页
        1.2.3 SiBCN的性能特点第14页
    1.3 陶瓷/金属焊接连接的研究进展第14-22页
        1.3.1 陶瓷/金属的钎焊连接研究第15-20页
        1.3.2 陶瓷/金属的扩散焊连接研究第20-22页
    1.4 主要研究内容第22-24页
第2章 试验材料及分析方法第24-32页
    2.1 试验材料第24-25页
    2.2 钎料选择及设计第25-26页
    2.3 焊接设备及工艺第26-29页
        2.3.1 钎焊设备和工艺第26-27页
        2.3.2 扩散焊设备和工艺第27-29页
        2.3.3 磁控溅射镀膜设备和工艺第29页
    2.4 组织分析和性能测试第29-32页
        2.4.1 扫描电子显微镜(SEM)第29-30页
        2.4.2 电子探针显微镜(EPMA)第30页
        2.4.3 XRD分析第30页
        2.4.4 DSC分析第30页
        2.4.5 膜基结合力测试第30页
        2.4.6 剪切强度测试第30-32页
第3章 TiZrNiCu钎料钎焊连接SiBCN/Nb第32-46页
    3.1 引言第32页
    3.2 TiZrNiCu钎料在陶瓷母材表面的润湿行为第32-33页
    3.3 SiBCN/Nb典型钎焊接头组织特征第33-38页
    3.4 SiBCN/Nb钎焊接头连接机理分析第38-41页
    3.5 钎焊工艺参数对SiBCN/Nb接头组织及性能的影响第41-45页
        3.5.1 钎焊温度对接头组织和性能的影响第41-43页
        3.5.2 保温时间对接头组织和性能的影响第43-45页
    3.6 本章小节第45-46页
第4章 Pd基中间层设计制备及钎焊性能研究第46-65页
    4.1 引言第46页
    4.2 中间层的设计制备及表征第46-52页
        4.2.1 中间层的设计第46-48页
        4.2.2 中间层的制备第48-49页
        4.2.3 Pd基中间层的表征第49-52页
    4.3 钎焊性能研究第52-57页
        4.3.1 润湿试验第52-55页
        4.3.2 钎焊试验第55-57页
    4.4 陶瓷表面磁控溅射金属化第57-63页
        4.4.1 金属化薄膜的设计及制备第57-58页
        4.4.2 磁控溅射工艺参数的优化第58-63页
    4.5 金属化处理后钎焊可行性研究第63-64页
    4.6 本章小节第64-65页
第5章 Pd-Ag中间层扩散连接SiBCN/Nb第65-82页
    5.1 引言第65页
    5.2 Pd-Ag中间层扩散焊可行性研究第65-67页
    5.3 镀层的选择及典型组织分析第67-74页
        5.3.1 镀层材料的选择第67-68页
        5.3.2 Ti镀层接头典型组织第68-71页
        5.3.3 Cr镀层接头典型组织第71-74页
    5.4 扩散焊工艺参数对(Ti)SiBCN/Nb接头组织及性能的影响第74-77页
        5.4.1 焊接温度对接头组织和性能的影响第74-76页
        5.4.2 保温时间对接头组织和性能的影响第76-77页
    5.5 扩散焊工艺参数对(Cr)SiBCN/Nb接头组织及性能的影响第77-80页
        5.5.1 焊接温度对接头组织和性能的影响第77-79页
        5.5.2 保温时间对接头组织和性能的影响第79-80页
    5.6 本章小节第80-82页
结论第82-83页
参考文献第83-88页
致谢第88页

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