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立方氮化硼薄膜中氧杂质的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-7页
目录第7-10页
第一章 文献综述第10-28页
   ·引言第10页
   ·氮化硼的结构、性质及应用第10-13页
   ·cBN薄膜的制备第13-16页
     ·物理气相沉积法(PVD)第13-14页
     ·化学气相沉积法(CVD)第14-15页
     ·脉冲激光沉积法(PLD)第15-16页
   ·cBN薄膜主要表征方法第16-19页
     ·傅立叶转换红外光谱(FTIR)第16-18页
     ·X射线光电子能谱分析(XPS)第18页
     ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM)第18-19页
   ·cBN薄膜的内微结构第19-22页
     ·aBN层第19页
     ·tBN层第19-20页
     ·cBN层第20-22页
   ·cBN结核形成的四种机理第22-24页
     ·选择溅射模型第22页
     ·热峰模型第22-23页
     ·再植模型第23页
     ·应力模型第23-24页
   ·cBN薄膜最新研究近况第24-26页
     ·cBN厚膜的制备第24-25页
     ·高质量cBN膜的制备和外延生长第25-26页
     ·cBN薄膜的掺杂第26页
   ·本文研究内容第26-28页
第二章 实验方法第28-34页
   ·实验设备第28-29页
     ·ICP-CVD方法原理第29页
     ·动态偏压控制技术第29页
   ·样品制备第29-30页
   ·样品表征第30-34页
     ·傅里叶红外吸收(FTIR)第30-31页
     ·X射线光电子能谱(XPS)第31-32页
     ·高分辨透射电镜(HRTEM)第32-34页
第三章 氧含量对制备cBN薄膜的影响第34-46页
   ·引言第34页
   ·cBN薄膜中氧浓度与背底真空度的关系第34-35页
     ·实验参数第34页
     ·结果分析第34-35页
     ·有效降低cBN薄膜中氧杂质的方法第35页
   ·氧含量对cBN成核和生长的影响第35-44页
     ·实验过程和参数第35-36页
     ·氧含量对cBN薄膜成核的影响第36-39页
     ·氧含量对cBN薄膜生长的影响第39-44页
   ·本章小结第44-46页
第四章 红外谱中1230cm~(-1)附近吸收峰的归属和应用第46-52页
   ·引言第46-47页
   ·研究主要内容第47页
   ·1230cm~(-1)附近吸收峰与BN薄膜中氧杂质的关系第47-50页
     ·XPS测试了cBN薄膜表面Ols峰对应的峰位第47-48页
     ·1230cm~(-1)附近吸收峰与cBN和tBN薄膜中氧杂质的关系第48-50页
   ·红外光谱半定量无损测定cBN薄膜中氧浓度第50-51页
   ·本章小结第51-52页
第五章 粘结剂对MnO_X-CeO_X/TiO_2-CNTs催化剂性能的影响第52-64页
   ·研究背景第52-55页
     ·脱硝技术第52-53页
     ·SCR技术第53页
     ·催化剂的选择第53-54页
     ·催化剂成型第54-55页
     ·本章研究内容第55页
   ·MnO_X-CeO_X/TiO_2-CNTs催化剂粉体制备和表征第55-57页
     ·催化剂粉体制备第55页
     ·催化剂粉体组成和形貌表征第55-57页
   ·片状催化剂的制备与性能表征第57-59页
     ·片状催化剂的制备第57-58页
     ·片状催化剂的性能表征方法第58-59页
   ·粘结剂对催化剂片性能的影响第59-61页
     ·粘结剂对催化剂片粘结度的影响第59页
     ·粘结剂对催化剂片防水性的影响第59-60页
     ·粘结剂对催化剂片脱硝性能的影响第60-61页
   ·片状催化剂的中试第61-62页
   ·本章小结第62-64页
第六章 全文总结第64-66页
参考文献第66-72页
致谢第72-74页
个人简历第74-76页
攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第76页

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