摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 文献综述 | 第10-28页 |
·引言 | 第10页 |
·氮化硼的结构、性质及应用 | 第10-13页 |
·cBN薄膜的制备 | 第13-16页 |
·物理气相沉积法(PVD) | 第13-14页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第14-15页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第15-16页 |
·cBN薄膜主要表征方法 | 第16-19页 |
·傅立叶转换红外光谱(FTIR) | 第16-18页 |
·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第18页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第18-19页 |
·cBN薄膜的内微结构 | 第19-22页 |
·aBN层 | 第19页 |
·tBN层 | 第19-20页 |
·cBN层 | 第20-22页 |
·cBN结核形成的四种机理 | 第22-24页 |
·选择溅射模型 | 第22页 |
·热峰模型 | 第22-23页 |
·再植模型 | 第23页 |
·应力模型 | 第23-24页 |
·cBN薄膜最新研究近况 | 第24-26页 |
·cBN厚膜的制备 | 第24-25页 |
·高质量cBN膜的制备和外延生长 | 第25-26页 |
·cBN薄膜的掺杂 | 第26页 |
·本文研究内容 | 第26-28页 |
第二章 实验方法 | 第28-34页 |
·实验设备 | 第28-29页 |
·ICP-CVD方法原理 | 第29页 |
·动态偏压控制技术 | 第29页 |
·样品制备 | 第29-30页 |
·样品表征 | 第30-34页 |
·傅里叶红外吸收(FTIR) | 第30-31页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
·高分辨透射电镜(HRTEM) | 第32-34页 |
第三章 氧含量对制备cBN薄膜的影响 | 第34-46页 |
·引言 | 第34页 |
·cBN薄膜中氧浓度与背底真空度的关系 | 第34-35页 |
·实验参数 | 第34页 |
·结果分析 | 第34-35页 |
·有效降低cBN薄膜中氧杂质的方法 | 第35页 |
·氧含量对cBN成核和生长的影响 | 第35-44页 |
·实验过程和参数 | 第35-36页 |
·氧含量对cBN薄膜成核的影响 | 第36-39页 |
·氧含量对cBN薄膜生长的影响 | 第39-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第四章 红外谱中1230cm~(-1)附近吸收峰的归属和应用 | 第46-52页 |
·引言 | 第46-47页 |
·研究主要内容 | 第47页 |
·1230cm~(-1)附近吸收峰与BN薄膜中氧杂质的关系 | 第47-50页 |
·XPS测试了cBN薄膜表面Ols峰对应的峰位 | 第47-48页 |
·1230cm~(-1)附近吸收峰与cBN和tBN薄膜中氧杂质的关系 | 第48-50页 |
·红外光谱半定量无损测定cBN薄膜中氧浓度 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 粘结剂对MnO_X-CeO_X/TiO_2-CNTs催化剂性能的影响 | 第52-64页 |
·研究背景 | 第52-55页 |
·脱硝技术 | 第52-53页 |
·SCR技术 | 第53页 |
·催化剂的选择 | 第53-54页 |
·催化剂成型 | 第54-55页 |
·本章研究内容 | 第55页 |
·MnO_X-CeO_X/TiO_2-CNTs催化剂粉体制备和表征 | 第55-57页 |
·催化剂粉体制备 | 第55页 |
·催化剂粉体组成和形貌表征 | 第55-57页 |
·片状催化剂的制备与性能表征 | 第57-59页 |
·片状催化剂的制备 | 第57-58页 |
·片状催化剂的性能表征方法 | 第58-59页 |
·粘结剂对催化剂片性能的影响 | 第59-61页 |
·粘结剂对催化剂片粘结度的影响 | 第59页 |
·粘结剂对催化剂片防水性的影响 | 第59-60页 |
·粘结剂对催化剂片脱硝性能的影响 | 第60-61页 |
·片状催化剂的中试 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
第六章 全文总结 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
个人简历 | 第74-76页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第76页 |