| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·6.5%Si硅钢的特性 | 第10-12页 |
| ·6.5%Si硅钢磁性能 | 第10-11页 |
| ·6.5wt%Si硅钢物理性能 | 第11-12页 |
| ·现阶段制备6.5wt%Si硅钢的方法 | 第12-14页 |
| ·CVD法制备6.5%Si硅钢国内外研究现状 | 第14-16页 |
| ·CVD法制备6.5wt%Si高硅钢渗硅速率及其影响因素 | 第16-19页 |
| ·CVD法制备6.5wt%Si高硅钢工艺原理 | 第16-18页 |
| ·渗硅速率的影响因素 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 CVD法制备高硅钢工艺过程 | 第20-33页 |
| ·均匀气氛法 | 第20-21页 |
| ·实验装置的设计 | 第21-28页 |
| ·CVD反应温度和反应时间控制 | 第21-24页 |
| ·反应物SiCl_4浓度的控制 | 第24-28页 |
| ·载气流量的控制 | 第28页 |
| ·均匀气氛法试验结果分析 | 第28-29页 |
| ·均匀气氛法存在的问题 | 第29-31页 |
| ·供气方式改为喷嘴喷涂法 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 不同喷射方式下流场仿真和实验研究 | 第33-48页 |
| ·计算流体动力学概述 | 第33-34页 |
| ·计算流体动力学简介 | 第33-34页 |
| ·Fluent软件简介 | 第34页 |
| ·不同喷射方式下的物理模型和网格划分 | 第34-36页 |
| ·几何模型 | 第34-35页 |
| ·网格划分 | 第35-36页 |
| ·喷嘴计算模型的确定 | 第36页 |
| ·湍流模型的确定 | 第36页 |
| ·输运模型的确定 | 第36页 |
| ·喷嘴控制方程 | 第36-38页 |
| ·喷嘴求解参数设置 | 第38页 |
| ·喷嘴流场仿真结果分析 | 第38-44页 |
| ·不同喷射方式下喷嘴内外流场分布仿真结果分析 | 第38-41页 |
| ·带钢表面速度场分布情况分析 | 第41-42页 |
| ·带钢表面压力场分布情况分析 | 第42-44页 |
| ·实验验证 | 第44-47页 |
| ·喷嘴出口速度检测 | 第44-46页 |
| ·喷涂效果验证 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 喷嘴喷涂法喷射方式研究 | 第48-62页 |
| ·实验基材的选择 | 第48-51页 |
| ·基材成分对磁性能的影响 | 第48-49页 |
| ·基材中Sn元素对硅沉积与扩散速度的影响 | 第49-51页 |
| ·实验步骤 | 第51-54页 |
| ·实验前处理 | 第51-52页 |
| ·实验过程 | 第52-54页 |
| ·实验后处理 | 第54页 |
| ·实验结果及分析 | 第54-60页 |
| ·温度对渗硅速率的影响 | 第54-55页 |
| ·SiCl_4浓度对不同方式下进行CVD反应渗硅速率的影响研究 | 第55-57页 |
| ·载气气体流量对不同方式下进行CVD反应渗硅速率的影响研究 | 第57-59页 |
| ·试样形貌及Si含量分布 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 研究总结与展望 | 第62-64页 |
| ·研究总结 | 第62页 |
| ·研究展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间的学术成果 | 第68页 |
