基于UV-LIGA的光栅制备技术研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-9页 |
图表清单 | 第9-13页 |
注释表 | 第13-14页 |
第一章 绪论 | 第14-24页 |
·光栅介绍 | 第14-17页 |
·光栅的分类 | 第14页 |
·光栅的原理 | 第14-15页 |
·光栅研究现状 | 第15-17页 |
·光栅现有加工方法 | 第17-21页 |
·机械刻划 | 第17页 |
·纳米压印 | 第17-18页 |
·全息光刻 | 第18-19页 |
·电子束光刻与 X 射线光刻 | 第19-21页 |
·UV-LIGA 工艺 | 第21-22页 |
·本课题来源及主要研究内容 | 第22-24页 |
·课题来源与研究目的 | 第22-23页 |
·本文研究的主要内容 | 第23-24页 |
第二章 光刻工艺研究 | 第24-43页 |
·引言 | 第24页 |
·SU-8 胶及其光刻工艺步骤 | 第24-42页 |
·基片选择与预处理 | 第25页 |
·匀胶 | 第25-29页 |
·前烘 | 第29-31页 |
·曝光 | 第31-34页 |
·曝光过程中易出现的问题 | 第31-32页 |
·曝光参数试验研究 | 第32-34页 |
·后烘 | 第34-36页 |
·超声处理 | 第36-37页 |
·显影 | 第37-40页 |
·显影中易出现的问题 | 第37页 |
·显影参数试验研究 | 第37-40页 |
·漂洗、干燥 | 第40页 |
·微细电铸 | 第40-41页 |
·去胶 | 第41页 |
·结果分析与讨论 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第三章 微细电铸试验研究 | 第43-60页 |
·微细电铸工艺简介 | 第43-47页 |
·微细电铸工艺原理 | 第43-44页 |
·光栅结构电铸工艺特征 | 第44-45页 |
·试验所需设备 | 第45页 |
·电铸溶液组成 | 第45-46页 |
·微细电铸工艺试验过程 | 第46-47页 |
·影响微细电铸镍工艺的主要参数简介 | 第47-59页 |
·冲液方式 | 第47-51页 |
·正向冲液装置 | 第47-48页 |
·侧向冲液装置 | 第48-51页 |
·电流密度 | 第51-53页 |
·电流密度对电铸表面平整度的影响 | 第51-52页 |
·电流密度对铸层晶粒的影响 | 第52-53页 |
·胶模厚度对电铸表面平整度的影响 | 第53-54页 |
·冲液速度对电铸效率的影响 | 第54-55页 |
·温度 | 第55-56页 |
·pH 值 | 第56页 |
·添加剂 | 第56-57页 |
·结果与分析 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第四章 超声试验研究 | 第60-72页 |
·试验原理 | 第60页 |
·超声振动装置结构与功能 | 第60-66页 |
·超声波发生器 | 第61页 |
·超声换能器 | 第61-63页 |
·变幅杆 | 第63页 |
·变幅杆与换能器连接方式 | 第63-64页 |
·工作台设计 | 第64-66页 |
·试验与分析 | 第66-71页 |
·超声辅助的 UV-LIGA 技术工艺过程 | 第66-67页 |
·超声辅助对光栅结构的影响分析 | 第67-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第五章 总结与展望 | 第72-73页 |
·本文的主要结论 | 第72页 |
·对本文研究工作的展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
攻读硕士学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第78页 |