| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·复合材料的界面 | 第9-13页 |
| ·复合材料的界面定义 | 第9-10页 |
| ·界面的形成机理 | 第10-12页 |
| ·界面的研究意义 | 第12-13页 |
| ·非化学计量比氮化钛 | 第13-16页 |
| ·非化学计量比化合物的提出 | 第13-14页 |
| ·非化学计量比 TiN_x | 第14-15页 |
| ·MA 制备非化学计量比 TiN | 第15-16页 |
| ·共价键化合物特性 | 第16-20页 |
| ·AlN 的晶体结构及性质 | 第16-17页 |
| ·Si_3N_4的晶体结构及性质 | 第17-18页 |
| ·Al_2O_3的晶体结构及性质 | 第18-20页 |
| ·课题提出和论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验方法与研究内容 | 第21-26页 |
| ·实验原料 | 第21页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·试验方法 | 第22-26页 |
| ·MA 制备 TiN_x | 第22页 |
| ·放电等离子烧结 | 第22-23页 |
| ·结构表征和性能测试手段 | 第23-26页 |
| 第3章 TiN_(0.3)/AlN 烧结界面微扩散现象研究 | 第26-37页 |
| ·前言 | 第26页 |
| ·Ti-Al-N 三元系热力学分析 | 第26-31页 |
| ·Ti-Al-N 三元系相图分析 | 第26-29页 |
| ·Ti-Al-N 三元系吉布斯自由能计算 | 第29-31页 |
| ·TiN_(0.3)/AlN 烧结界面研究 | 第31-33页 |
| ·TiN_(0.3)/AlN 分层烧结界面显微结构 | 第31-32页 |
| ·TiN_(0.3)/AlN 烧结界面元素分布 | 第32-33页 |
| ·TiN_(0.3)/AlN 烧结体物相分析 | 第33页 |
| ·扩散过程及机理分析 | 第33-35页 |
| ·TiN_x对 AlN 烧结性能影响的预测 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 TiN_(0.3)/Si_3N_4烧结界面微扩散现象研究 | 第37-46页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·Ti-Si-N 三元系热力学分析 | 第37-40页 |
| ·Ti-Si-N 三元相图分析 | 第37-39页 |
| ·Ti-Si-N 三元系吉布斯自由能 | 第39-40页 |
| ·TiN_(0.3)/Si_3N_4烧结界面微扩散研究 | 第40-43页 |
| ·TiN_(0.3)/Si_3N_4分层烧结界面显微结构 | 第40-42页 |
| ·TiN_(0.3)/Si_3N_4界面物相分析 | 第42-43页 |
| ·反应过程及反应机理分析 | 第43-44页 |
| ·TiN_x对 Si_3N_4烧结性能影响的预测 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 TiN_(0.3)/Al_2O_3分层及复合烧结研究 | 第46-60页 |
| ·Ti-Al-O-N 四元系热力学分析 | 第46-47页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3分层烧结界面研究 | 第47-51页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3分层烧结界面显微结构 | 第47-49页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3分层烧结界面物相分析 | 第49-50页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3分层烧结扩散过程及机理分析 | 第50页 |
| ·TiN_x对 Al_2O_3烧结性能影响的预测 | 第50-51页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3复合的烧结性能研究 | 第51-58页 |
| ·不同烧结温度的 TiN_(0.3)/Al_2O_3的烧结性能 | 第51-54页 |
| ·不同比例的 TiN_(0.3)/Al_2O_31400℃的烧结性能 | 第54-57页 |
| ·TiN_(0.3)/Al_2O_3复合材料增韧机理分析 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 作者简介 | 第67页 |
