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微晶硅薄膜材料的制备及其光电特性的研究

中文摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 引言第11-17页
   ·太阳能电池的发展背景第11-12页
   ·硅基薄膜电池的发展第12-13页
   ·微晶硅薄膜材料第13-15页
     ·微晶硅的基本特性第13页
     ·微晶硅的制备方法第13-15页
     ·微晶硅太阳能电池的结构第15页
   ·本次论文研究的主要内容第15-17页
第二章 RF-PECVD制备原理与材料的表征第17-28页
   ·实验仪器的介绍第17页
   ·沉积的基本过程与反应原理第17-20页
   ·微晶硅生长的理论模型第20-22页
   ·实验表征的方法第22-28页
     ·X射线衍射谱分析第22-23页
     ·Raman散射光谱分析第23-24页
     ·紫外可见光分析第24-26页
     ·傅里叶变换红外光谱分析第26页
     ·电学性质的表征第26-27页
     ·SEM形貌的表征分析第27-28页
第三章 沉积时间对微晶硅表征的影响第28-34页
   ·实验目的第28页
   ·实验过程第28页
   ·结果与讨论第28-32页
     ·X射线衍射分析第28-30页
     ·拉曼谱对样品晶化率的表征第30-31页
     ·微晶硅薄膜光学带隙的测试与分析第31-32页
   ·本章小结第32-34页
第四章 等离子体射频功率对微晶硅薄膜的影响第34-40页
   ·实验目的第34页
   ·实验过程第34页
   ·结果与讨论第34-39页
     ·X射线衍射谱对样品的分析第34-35页
     ·拉曼光谱对样品的分析第35页
     ·红外吸收谱对样品的分析第35-39页
     ·SEM对样品的表面结构分析第39页
   ·本章小结第39-40页
第五章 双沉积参数对微晶硅的生长的调配作用第40-47页
   ·实验目的第40页
   ·实验过程第40页
   ·结果与讨论第40-46页
   ·结论第46-47页
第六章 硅薄膜退火的研究第47-56页
   ·实验目的第47页
   ·实验过程与分析第47-56页
第七章 结论与展望第56-58页
   ·实验结果第56-57页
   ·展望第57-58页
参考文献第58-62页
攻读硕士期间发表和完成的论文第62-63页
致谢第63页

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