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基于多相场模型的二元合金层片生长研究

摘要第1-8页
Abstract第8-10页
“物理量名称及符号”参阅表第10-11页
第1章 绪论第11-21页
   ·课题的背景与意义第11-12页
   ·共晶凝固理论的历史进程第12-15页
     ·经典共晶模型(JH模型)第12-14页
     ·现代共晶凝固理论的研究进展第14-15页
   ·相场法第15-17页
     ·相场法在凝固微观组织研究领域中的应用第16页
     ·典型的相场模型第16-17页
       ·纯物质相场模型第16页
       ·单相合金系统的相场模型第16-17页
       ·多相合金系统的相场模型第17页
   ·多相场模型第17-19页
     ·典型的共晶多相场模型第17-18页
       ·Nestler多相场模型第17-18页
       ·Folch多相场模型第18页
       ·KKSM多相场模型第18页
     ·多相场模型的研究进展第18-19页
   ·相场法与共晶微观组织模拟的研究现状第19-20页
     ·相场法的研究进展第19-20页
     ·共晶多相场模型的研究现状第20页
   ·本文的主要研究工作及主线第20-21页
第2章 共晶多相场模型第21-30页
   ·朗道理论和金兹堡朗道理论第21-23页
     ·朗道理论的基本原理第21-23页
     ·金兹堡朗道理论第23页
   ·KKS模型第23-24页
   ·KKSM共晶多相场模型第24-29页
     ·相场控制方程第26-27页
     ·溶质场控制方程第27页
     ·参数的确定第27-29页
       ·相场模型参数第27-29页
       ·计算参数第29页
   ·本章小结第29-30页
第3章 模型的数值求解及数值模拟第30-38页
   ·初始条件及边界条件第30页
   ·共晶多相场模型的离散第30-33页
     ·二维空间离散格式第31页
     ·时间离散格式第31-32页
     ·相场控制方程的离散第32页
     ·溶质场控制方程的离散第32-33页
   ·程序的实现第33-34页
   ·扰动的设置第34-35页
   ·材料的物性参数第35页
   ·计算结果的可视化第35-37页
     ·基于Tecplot10软件的模拟结果绘图第36页
     ·基于Origin软件的数据处理第36-37页
   ·本章小结第37-38页
第4章 CBr4-C2C16合金共晶生长形貌模拟及结果分析第38-54页
   ·计算系统第38-39页
     ·参数空间第38-39页
     ·空间参数选择第39页
   ·层片间距对层片生长模式的影响第39-42页
     ·共晶成分第39-40页
     ·亚共晶第40-41页
     ·过共晶第41-42页
   ·层片生长模式影响因素第42-51页
     ·等温凝固条件下过冷度对层片形态及界面的影响第42-43页
     ·等温凝固条件下界面能对层片形态及界面的影响第43-46页
     ·等温凝固条件下液相扩散系数对层片形态及界面的影响第46-48页
     ·等温凝固条件下外界干扰对层片形态及界面的影响第48-49页
     ·等温凝固条件典型层片生长形态的溶质分布第49-51页
   ·实验结果对比第51页
   ·分析讨论第51-52页
     ·共晶层片稳定性分析第51-52页
     ·共晶固液界面稳定性分析第52页
   ·本章小结第52-54页
结论第54-55页
参考文献第55-59页
致谢第59-60页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第60页

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