摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
“物理量名称及符号”参阅表 | 第10-11页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
·课题的背景与意义 | 第11-12页 |
·共晶凝固理论的历史进程 | 第12-15页 |
·经典共晶模型(JH模型) | 第12-14页 |
·现代共晶凝固理论的研究进展 | 第14-15页 |
·相场法 | 第15-17页 |
·相场法在凝固微观组织研究领域中的应用 | 第16页 |
·典型的相场模型 | 第16-17页 |
·纯物质相场模型 | 第16页 |
·单相合金系统的相场模型 | 第16-17页 |
·多相合金系统的相场模型 | 第17页 |
·多相场模型 | 第17-19页 |
·典型的共晶多相场模型 | 第17-18页 |
·Nestler多相场模型 | 第17-18页 |
·Folch多相场模型 | 第18页 |
·KKSM多相场模型 | 第18页 |
·多相场模型的研究进展 | 第18-19页 |
·相场法与共晶微观组织模拟的研究现状 | 第19-20页 |
·相场法的研究进展 | 第19-20页 |
·共晶多相场模型的研究现状 | 第20页 |
·本文的主要研究工作及主线 | 第20-21页 |
第2章 共晶多相场模型 | 第21-30页 |
·朗道理论和金兹堡朗道理论 | 第21-23页 |
·朗道理论的基本原理 | 第21-23页 |
·金兹堡朗道理论 | 第23页 |
·KKS模型 | 第23-24页 |
·KKSM共晶多相场模型 | 第24-29页 |
·相场控制方程 | 第26-27页 |
·溶质场控制方程 | 第27页 |
·参数的确定 | 第27-29页 |
·相场模型参数 | 第27-29页 |
·计算参数 | 第29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
第3章 模型的数值求解及数值模拟 | 第30-38页 |
·初始条件及边界条件 | 第30页 |
·共晶多相场模型的离散 | 第30-33页 |
·二维空间离散格式 | 第31页 |
·时间离散格式 | 第31-32页 |
·相场控制方程的离散 | 第32页 |
·溶质场控制方程的离散 | 第32-33页 |
·程序的实现 | 第33-34页 |
·扰动的设置 | 第34-35页 |
·材料的物性参数 | 第35页 |
·计算结果的可视化 | 第35-37页 |
·基于Tecplot10软件的模拟结果绘图 | 第36页 |
·基于Origin软件的数据处理 | 第36-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第4章 CBr4-C2C16合金共晶生长形貌模拟及结果分析 | 第38-54页 |
·计算系统 | 第38-39页 |
·参数空间 | 第38-39页 |
·空间参数选择 | 第39页 |
·层片间距对层片生长模式的影响 | 第39-42页 |
·共晶成分 | 第39-40页 |
·亚共晶 | 第40-41页 |
·过共晶 | 第41-42页 |
·层片生长模式影响因素 | 第42-51页 |
·等温凝固条件下过冷度对层片形态及界面的影响 | 第42-43页 |
·等温凝固条件下界面能对层片形态及界面的影响 | 第43-46页 |
·等温凝固条件下液相扩散系数对层片形态及界面的影响 | 第46-48页 |
·等温凝固条件下外界干扰对层片形态及界面的影响 | 第48-49页 |
·等温凝固条件典型层片生长形态的溶质分布 | 第49-51页 |
·实验结果对比 | 第51页 |
·分析讨论 | 第51-52页 |
·共晶层片稳定性分析 | 第51-52页 |
·共晶固液界面稳定性分析 | 第52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第60页 |