| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第12-15页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO 的光电性质 | 第14页 |
| ·压电特性 | 第14-15页 |
| ·压敏特性 | 第15页 |
| ·气敏特性 | 第15页 |
| ·氧化锌的应用 | 第15-22页 |
| ·氧化锌在低辐射玻璃上的应用 | 第15-18页 |
| ·低辐射镀膜玻璃的分类 | 第15-16页 |
| ·半导体单层膜低辐射玻璃 | 第16-18页 |
| ·氧化锌在太阳能电池上的应用 | 第18-21页 |
| ·太阳能电池的工作原理简介 | 第18-20页 |
| ·薄膜太阳能电池 | 第20页 |
| ·绒面氧化锌铝薄膜(ZAO)在太阳能电池中的应用 | 第20-21页 |
| ·氧化锌在紫外探测器上的应用 | 第21页 |
| ·氧化锌在声表面波器件上的应用 | 第21-22页 |
| ·氧化锌在 ELD 上的应用 | 第22页 |
| ·氧化锌薄膜的制备技术 | 第22-30页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第22-23页 |
| ·真空溅射镀膜法 | 第23页 |
| ·磁控电子阴极真空溅射镀膜法 | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第24-25页 |
| ·电浮法镀膜 | 第25页 |
| ·溶胶-凝胶法镀膜 | 第25-26页 |
| ·喷雾热解法 | 第26-27页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第27-28页 |
| ·激光脉冲沉积法 | 第28-30页 |
| 第三章 超声喷雾实验装置的设计及原理 | 第30-40页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·USP 技术简介 | 第30-33页 |
| ·USP 发展史 | 第30-32页 |
| ·超声喷雾热解技术沉积 ZnO 薄膜的研究现状 | 第32-33页 |
| ·USP 技术优点 | 第33-34页 |
| ·USP 技术原理 | 第34-36页 |
| ·超声雾化原理 | 第34-35页 |
| ·热解沉积机理 | 第35-36页 |
| ·实验过程 | 第36-38页 |
| ·主要原料 | 第36-37页 |
| ·实验设备及测试仪器 | 第37页 |
| ·实验样品的制备过程 | 第37-38页 |
| ·前驱体溶液的配置 | 第37-38页 |
| ·衬底的清洗及干燥 | 第38页 |
| ·薄膜的制备 | 第38页 |
| ·仪器的清洗及烘干 | 第38页 |
| ·薄膜分析与测试方法 | 第38-40页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第38-39页 |
| ·紫外-可见光谱测试 | 第39页 |
| ·膜厚的测定 | 第39页 |
| ·X 射线衍射 | 第39-40页 |
| 第四章 工艺参数对氧化锌薄膜微观结构及形貌的影响 | 第40-58页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·衬底温度 | 第40-48页 |
| ·衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第41-43页 |
| ·衬底温度对薄膜生长速率的影响 | 第43-45页 |
| ·衬底温度对薄膜微观形貌的影响 | 第45-48页 |
| ·前驱体溶液中 Zn~(2+)浓度 | 第48-52页 |
| ·前驱体溶液中 Zn~(2+)浓度对薄膜生长速率的影响 | 第48-49页 |
| ·前驱体溶液中 Zn~(2+)浓度对薄膜微观形貌的影响 | 第49-52页 |
| ·沉积时间 | 第52-53页 |
| ·退火制度 | 第53-56页 |
| ·退火温度对薄膜晶体结构的影响 | 第54-55页 |
| ·退火温度对薄膜微观形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 工艺参数对氧化锌薄膜光学性能的影响 | 第58-65页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·ZnO 薄膜的紫外-可见光透射光谱 | 第58-63页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性学的影响 | 第59-61页 |
| ·前驱体溶液浓度对薄膜光学性能的影响 | 第61-63页 |
| ·退火温度对薄膜光学性能的影响 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录 研究生期间发表的学术论文 | 第73页 |