基于等效介质近似模型抗反射涂层的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·研究背景和意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-13页 |
| ·论文研究工作 | 第13-15页 |
| 第二章 太阳能电池简介 | 第15-23页 |
| ·硅基太阳能电池的基本工作原理 | 第15-17页 |
| ·硅太阳能电池的模型电路 | 第17-19页 |
| ·太阳能电池的性能表征参数 | 第19-23页 |
| ·填充因子 | 第19-20页 |
| ·转换效率 | 第20-21页 |
| ·量子效率 | 第21-23页 |
| 第三章 抗反射涂层原理及制备表征 | 第23-35页 |
| ·抗反射涂层的发展 | 第23-24页 |
| ·抗反射涂层的原理 | 第24-29页 |
| ·抗反射涂层原理的定性解释 | 第25-26页 |
| ·抗反射涂层原理的定量解释 | 第26-29页 |
| ·光线垂直入射时 | 第26-27页 |
| ·光线斜入射时 | 第27-29页 |
| ·抗反射涂层的制备工艺 | 第29-31页 |
| ·抗反射涂层的表征 | 第31-35页 |
| ·椭偏仪 | 第31-33页 |
| ·X 射线光电子谱仪 | 第33页 |
| ·紫外可见光近红外光分光光度计 | 第33-35页 |
| 第四章 三层结构抗反射涂层 EMA 模型的建立 | 第35-41页 |
| ·等效介质近似理论简述 | 第35-37页 |
| ·基于 EMA 模型三层结构抗反射涂层的仿真分析 | 第37-41页 |
| ·硅纳米晶体折射率 | 第37-38页 |
| ·掺有硅纳米晶体氮化硅的折射率计算 | 第38-39页 |
| ·三层结构抗反射涂层模型 | 第39-41页 |
| 第五章 三层结构抗反射涂层的制备及应用 | 第41-60页 |
| ·薄膜的实验制备 | 第41-47页 |
| ·实验样品的准备 | 第41-42页 |
| ·PECVD 法薄膜的制备及表征 | 第42-47页 |
| ·高折射率材料工艺的探索 | 第43-46页 |
| ·高折射率材料成分的表征 | 第46-47页 |
| ·抗反射涂层的制备及表征 | 第47-53页 |
| ·三种薄膜的制备及折射率表征 | 第47-48页 |
| ·三层薄膜制备工艺研究 | 第48-49页 |
| ·抗反射涂层薄膜厚度的优化及实验测试 | 第49-53页 |
| ·近似垂直入射时，抗反射特性测试 | 第50-51页 |
| ·光线斜入射时，抗反射特性测试 | 第51-52页 |
| ·光致发光现象测试 | 第52-53页 |
| ·抗反射涂层的实际应用 | 第53-60页 |
| ·样品的制备 | 第53-56页 |
| ·外量子效率测试 | 第56-58页 |
| ·电流密度和电压特性测试 | 第58-60页 |
| 第六章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 硕士期间取得的研究成果 | 第67-68页 |
