| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第7-11页 |
| ·多弧离子镀 | 第8-9页 |
| ·空心阴极离子镀 | 第9-10页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第10-11页 |
| ·硬质涂层的研究现状及应用 | 第11-14页 |
| ·(Ti,Al)N涂层的主要特性 | 第12页 |
| ·(Ti,Al)N涂层的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·(Ti,Al)N涂层生长机理 | 第13-14页 |
| ·(Ti,Al)N涂层主要应用 | 第14页 |
| ·(Ti,Al)N涂层存在的主要问题 | 第14-16页 |
| ·涂层残余应力 | 第14-15页 |
| ·涂层表面的大颗粒 | 第15-16页 |
| ·本文研究内容、意义及路线 | 第16-17页 |
| ·主要研究内容 | 第16页 |
| ·研究意义 | 第16页 |
| ·研究路线 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 (Ti,Al)N涂层的制备与表征 | 第18-24页 |
| ·实验设备 | 第18-19页 |
| ·(Ti,Al)N涂层制备 | 第19-20页 |
| ·涂层制备原理 | 第19页 |
| ·基体选择及前处理 | 第19页 |
| ·涂层制备工艺 | 第19-20页 |
| ·(Ti,Al)N涂层表征 | 第20-23页 |
| ·涂层残余应力检测方法的确定 | 第20-21页 |
| ·XRD物相检测 | 第21页 |
| ·涂层微观形貌检测 | 第21-22页 |
| ·涂层硬度测定 | 第22页 |
| ·涂层与基体结合强度检测 | 第22-23页 |
| ·涂层摩擦性能测定 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 (Ti,Al)N涂层物相成分及残余应力计算分析 | 第24-33页 |
| ·X射线衍射结果分析 | 第24-25页 |
| ·(Ti,Al)N涂层残余应力计算分析 | 第25-32页 |
| ·涂层残余应力产生 | 第25-26页 |
| ·X射线法测定涂层残余应力原理 | 第26-28页 |
| ·涂层残余应力计算 | 第28-30页 |
| ·涂层热应力计算 | 第30-31页 |
| ·涂层本征应力计算 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 (Ti,Al)N涂层残余应力影响因素及控制 | 第33-40页 |
| ·微观形貌对涂层残余应力影响 | 第33-37页 |
| ·涂层SEM形貌分析 | 第33-34页 |
| ·涂层表面大颗粒对应力影响 | 第34页 |
| ·涂层表面大颗粒形成机理 | 第34-37页 |
| ·脉冲偏压对涂层残余应力影响 | 第37-38页 |
| ·脉冲偏压对沉积温度影响 | 第37页 |
| ·脉冲偏压对大颗粒影响 | 第37-38页 |
| ·过渡层对涂层残余应力影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 (Ti,Al)N涂层综合性能分析 | 第40-44页 |
| ·(Ti,Al)N涂层硬度 | 第40-41页 |
| ·(Ti,Al)N涂层与基体结合力 | 第41-42页 |
| ·(Ti,Al)N涂层耐磨性能 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第六章 结论 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 作者简介 | 第51页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第51-52页 |