| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-16页 |
| ·选题的来源、背景和意义 | 第13-14页 |
| ·论文的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 场发射理论及场发射阴极材料 | 第16-22页 |
| ·场发射平板显示器简介 | 第16-18页 |
| ·场发射显示的原理 | 第16-17页 |
| ·场发射平板显示器的研究现状 | 第17-18页 |
| ·场发射冷阴极材料 | 第18-20页 |
| ·金属材料 | 第18页 |
| ·金刚石 | 第18页 |
| ·类金刚石薄膜 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管 | 第19-20页 |
| ·碳纳米管阴极的制备方法 | 第20页 |
| ·研究内容和创新点 | 第20-22页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| ·创新点 | 第21-22页 |
| 第三章 碳纳米管材料 | 第22-28页 |
| ·碳纳米管的发现 | 第22页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第22-23页 |
| ·碳纳米管的制备 | 第23-24页 |
| ·碳纳米管的特性 | 第24-25页 |
| ·碳纳米管的应用 | 第25-26页 |
| ·碳纳米管电子学的应用 | 第25页 |
| ·碳纳米管在信息存储领域的应用 | 第25页 |
| ·碳纳米管在储氢材料领域的应用 | 第25-26页 |
| ·碳纳米管在其它领域的应用 | 第26页 |
| ·碳纳米管薄膜的场发射性能研究 | 第26-28页 |
| 第四章 试验内容与方法 | 第28-32页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·试验仪器与设备 | 第29-30页 |
| ·主要仪器 | 第29页 |
| ·试验试剂与材料 | 第29-30页 |
| ·镀件预处理 | 第30页 |
| ·电泳 | 第30-32页 |
| ·电泳液的主要成分 | 第30-31页 |
| ·电泳的工艺流程 | 第31页 |
| ·电泳的工艺参数控制 | 第31-32页 |
| 第五章 试验结果及分析讨论 | 第32-47页 |
| ·各工艺参数对电泳结果的影响 | 第32-33页 |
| ·单因素影响实验 | 第33-35页 |
| ·场发射性能测试 | 第35-36页 |
| ·测试设备与方法 | 第35页 |
| ·场发射性能指标 | 第35-36页 |
| ·测试结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·薄膜的形貌测试 | 第36-37页 |
| ·场发射结果测试与分析 | 第37-42页 |
| ·分散液对 CNTs 场发射性能的影响 | 第42-47页 |
| ·碳纳米管分散机理 | 第42页 |
| ·电泳液配比 | 第42页 |
| ·分散液对 CNTs 薄膜形貌的影响 | 第42-45页 |
| ·分散液对 CNTs 场发射特性的影响 | 第45-47页 |
| 第六章 基底镀膜对电泳沉积碳纳米管薄膜的场发射性能影响 | 第47-60页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第48页 |
| ·样品制备 | 第48-49页 |
| ·基底镀膜对碳纳米管薄膜的性能影响 | 第49-60页 |
| ·基底预镀膜对电泳沉积碳纳米管薄膜的表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| ·退火工艺参数对预镀金属膜的 CNTs 薄膜形貌影响 | 第51-53页 |
| ·Ti/Si-CNTs 薄膜场发射性能 | 第53-57页 |
| ·W/Si-CNTs 薄膜场发射性能 | 第57-58页 |
| ·基底镀覆金属膜对碳纳米管场发射性能影响的分析 | 第58-60页 |
| 第七章 总结与展望 | 第60-63页 |
| ·研究成果与结论 | 第60-61页 |
| ·应用价值 | 第61-62页 |
| ·未来研究工作展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及取得的相关科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
