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单晶硅太阳电池表面陷光微结构的制备与性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-13页
第一章 绪论第13-33页
   ·太阳电池的研究意义第13-14页
   ·太阳电池的研究历史和发展状况第14-16页
   ·晶体硅太阳电池器件及工作原理第16-27页
     ·晶体硅太阳电池器件结构第16-17页
     ·晶体硅太阳电池工作原理第17-22页
     ·晶体硅太阳电池制备工艺第22-27页
   ·晶体硅太阳电池制绒第27-31页
     ·晶体硅太阳电池表面光学损失第27页
     ·晶体硅太阳电池的制绒方法第27-31页
   ·本文研究目的和研究内容第31-33页
第二章 材料的制备与表征第33-40页
   ·主要实验原料和实验设备第33-34页
     ·实验原料第33页
     ·实验主要设备第33-34页
   ·制备方法第34-35页
     ·衬底清洗第34页
     ·硅片表面损伤层的去除:第34页
     ·减反射微结构的制备第34-35页
   ·性能表征仪器及方法第35-40页
     ·材料表征的主要设备第35页
     ·金相显微镜第35-36页
     ·扫描电子显微镜第36-37页
     ·四探针方块电阻测试仪第37-39页
     ·紫外可见分光光度计第39-40页
第三章 金字塔结构的制备和性能研究第40-50页
   ·引言第40页
   ·绒面制备方法第40-41页
   ·金字塔绒面的基本性质第41-43页
     ·金字塔大小及覆盖率第41页
     ·金字塔倾斜角度第41-42页
     ·金字塔绒面的反射率第42-43页
   ·影响金字塔形貌因素第43-46页
     ·影响金字塔形貌的因素第43页
     ·NaOH 浓度对绒面形貌和反射率的影响第43-45页
     ·反应时间对绒面和反射率的影响第45-46页
   ·金字塔倾斜角α与反射率 R 的拟合关系第46-48页
   ·本章小结第48-50页
第四章 多孔硅陷光微结构的制备与性能研究第50-63页
   ·引言第50页
   ·电化学腐蚀法制备多孔硅第50-59页
     ·电化学腐蚀制备多孔硅形成机理第50-51页
     ·多层多孔硅减反射机理第51-52页
     ·多层多孔硅制备第52-55页
     ·多层多孔硅结果与分析第55-59页
   ·化学腐蚀法制备多孔硅第59-62页
     ·前言第59页
     ·化学腐蚀多孔硅实验第59页
     ·结果与讨论第59-61页
     ·化学腐蚀制备多孔硅机理分析第61-62页
   ·本章小结第62-63页
第五章 复合减反射微结构的制备与性能研究第63-72页
   ·引言第63页
   ·多孔-金字塔复合结构第63-65页
     ·前言第63页
     ·多孔-金字塔制备实验第63页
     ·结果与讨论第63-65页
   ·多层多孔-金字塔复合结构第65-70页
     ·前言第65-66页
     ·多层多孔-金字塔制备实验第66-67页
     ·结果与讨论第67-70页
   ·本章小结第70-72页
第六章 结论与展望第72-74页
   ·结论第72-73页
   ·展望第73-74页
参考文献第74-80页
致谢第80-81页
攻读硕士学位期间发表或已完成的学术论文第81页
攻读硕士学位期间参加科研项目情况第81页

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