| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| ·纳米结构的概念及其应用 | 第13-14页 |
| ·几种典型的微纳米结构制作方法 | 第14-15页 |
| ·光学曝光技术（optical lithography） | 第14页 |
| ·电子束曝光技术（EB lithography） | 第14-15页 |
| ·聚焦离子束加工技术（FIB） | 第15页 |
| ·复制技术 | 第15-18页 |
| ·热压印 | 第15-16页 |
| ·紫外压印 | 第16-17页 |
| ·软光刻技术 | 第17-18页 |
| ·纳米结构复制技术的研究现状 | 第18-19页 |
| ·国外研究现状 | 第18页 |
| ·国内研究现状 | 第18-19页 |
| ·本课题研究意义及内容 | 第19-20页 |
| 第二章 卷对卷纳米压印技术及压印机设计 | 第20-35页 |
| ·概述 | 第20-21页 |
| ·卷对卷纳米压印的材料要求 | 第21-22页 |
| ·模板材料 | 第21页 |
| ·胶层材料 | 第21-22页 |
| ·基底材料 | 第22页 |
| ·卷对卷纳米压印工艺流程 | 第22-25页 |
| ·旋转涂胶 | 第23页 |
| ·前烘 | 第23-24页 |
| ·旋转压印 | 第24页 |
| ·固化 | 第24页 |
| ·旋转脱模 | 第24-25页 |
| ·卷对卷纳米压印机的研制 | 第25-33页 |
| ·机架 | 第25-26页 |
| ·控制电机 | 第26-30页 |
| ·主传动及辊轮 | 第30-32页 |
| ·微调机构 | 第32-33页 |
| ·卷对卷纳米压印机的研制总结 | 第33页 |
| ·卷对卷纳米压印复制光栅图形 | 第33-35页 |
| ·试验过程 | 第33-34页 |
| ·试验结果 | 第34-35页 |
| 第三章 卷对卷纳米压印脱模的研究 | 第35-64页 |
| ·概述 | 第35-37页 |
| ·卷对卷纳米压印脱模的运动分析 | 第37-44页 |
| ·垂直式脱模运动分析 | 第37-41页 |
| ·平行式脱模运动分析 | 第41-44页 |
| ·卷对卷纳米压印脱模作用力的分析 | 第44-58页 |
| ·表面接触的力学行为 | 第44-50页 |
| ·平行式脱模作用力的分析 | 第50-56页 |
| ·垂直式脱模作用力的分析 | 第56-58页 |
| ·卷对卷纳米压印脱模的有限元模拟 | 第58-64页 |
| ·模拟意义及特点 | 第58-59页 |
| ·平行接触面上脱模应力分布状态 | 第59页 |
| ·平行式脱模侧壁接触面脱模应力分布状态 | 第59-62页 |
| ·垂直式脱模侧壁接触面脱模应力分布状态 | 第62-64页 |
| 第四章 卷对卷纳米压印结合等离子体聚合法在柔性基底上连续制作微纳通道 | 第64-69页 |
| ·概述 | 第64页 |
| ·材料及工艺 | 第64-66页 |
| ·R2RNIL 技术制作微纳流体通道材料 | 第64页 |
| ·R2RNIL 结合等离子体聚合法制作微纳流体通道工艺流程 | 第64-66页 |
| ·聚合法制作微纳流体通道 | 第66-67页 |
| ·试验要点 | 第67-69页 |
| ·柔性模板上光栅线槽尺寸的选择 | 第67-68页 |
| ·等离子体聚合反应中的注意事项 | 第68-69页 |
| 第五章 全文总结与工作展望 | 第69-71页 |
| ·全文总结 | 第69-70页 |
| ·工作展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76页 |
| 攻读硕士学位期间参与的研究项目 | 第76-77页 |
