| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-33页 |
| ·真空镀膜技术简介 | 第13-16页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第13-15页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第15-16页 |
| ·等离子体 | 第16-20页 |
| ·等离子体特点及分类 | 第16-18页 |
| ·等离子体产生方式 | 第18-20页 |
| ·等离子体研究进展 | 第20-31页 |
| ·等离子体理论模拟研究 | 第21-27页 |
| ·等离子体诊断 | 第27-31页 |
| ·本文的研究意义及工作内容安排 | 第31-33页 |
| 第2章 容性放电Ar等离子体中电子的能量分布 | 第33-59页 |
| ·波尔兹曼方程 | 第33-36页 |
| ·反应类型和碰撞截面 | 第36-37页 |
| ·直流稳态电场下电子的能量分布 | 第37-42页 |
| ·射频电场下电子的能量分布 | 第42-48页 |
| ·射频电场 | 第42-44页 |
| ·计算结果及分析 | 第44-48页 |
| ·电子能量分布的实验验证 | 第48-56页 |
| ·郎缪尔探针工作原理 | 第49-51页 |
| ·电子能量分布诊断及验证 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-59页 |
| 第3章 射频容性放电Ar等离子体流体动力学模拟 | 第59-81页 |
| ·一维模型的建立 | 第59-61页 |
| ·边界条件 | 第61-62页 |
| ·数值计算方法 | 第62-64页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第64-70页 |
| ·自偏压分析 | 第70-73页 |
| ·等离子体密度的实验验证 | 第73-78页 |
| ·法拉第探针工作原理 | 第74-75页 |
| ·等离子体密度诊断及验证 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-81页 |
| 第4章 射频容性放电Ar等离子体的混合模拟 | 第81-99页 |
| ·MC模拟方法概述 | 第81-86页 |
| ·混合模拟流程 | 第86-88页 |
| ·计算结果及讨论 | 第88-93页 |
| ·放电压力的影响 | 第89-91页 |
| ·放电电压的影响 | 第91-92页 |
| ·自偏压的影响 | 第92-93页 |
| ·离子能量分布的实验验证 | 第93-97页 |
| ·法拉第能量分析器工作原理 | 第93-95页 |
| ·离子能量分布诊断及验证 | 第95-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 第5章 射频容性放电CH_4等离子体中电子的能量分布 | 第99-111页 |
| ·波尔兹曼方程的扩展 | 第99-101页 |
| ·反应类型和碰撞截面 | 第101-103页 |
| ·数值计算结果及分析 | 第103-109页 |
| ·电子能量分布 | 第103-105页 |
| ·电子平均能量和反应率系数 | 第105-108页 |
| ·电子传输率系数 | 第108-109页 |
| ·本章小结 | 第109-111页 |
| 第6章 射频容性放电CH_4等离子体流体动力学模拟 | 第111-131页 |
| ·模型建立 | 第111-113页 |
| ·粒子种类与化学反应 | 第113-115页 |
| ·传输率系数 | 第115-116页 |
| ·边界条件 | 第116-117页 |
| ·电子反应率系数 | 第117-118页 |
| ·计算结果 | 第118-130页 |
| ·射频峰值电压对等离子体的影响 | 第123-125页 |
| ·CH_4流量对等离子体的影响 | 第125-127页 |
| ·放电压力对等离子体的影响 | 第127-129页 |
| ·放电功率对极板表面粒子流量的影响 | 第129-130页 |
| ·本章小结 | 第130-131页 |
| 第7章 结论与展望 | 第131-135页 |
| ·本文主要结论 | 第131-132页 |
| ·今后工作展望 | 第132-135页 |
| 创新点摘要 | 第135-137页 |
| 参考文献 | 第137-147页 |
| 致谢 | 第147-149页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第149-151页 |
| 作者简历 | 第151页 |