高温化学气相沉积系统的温度场和流场的研究与改进

摘要	第1页
ABSTRACT	第5-7页
第1章 绪论	第7-17页
·高温大功率半导体材料SiC及外延方法	第7-10页
·化学气相沉积	第10-11页
·目前国内国际相关问题研究进展	第11-14页
·改装前系统存在的问题以及该工作的意义	第14-16页
·本章小结	第16-17页
第2章 温度场的研究与改进	第17-25页
·Ansoft Maxwell软件简介	第17-19页
·模拟计算结果	第19-23页
·改进方案设计	第23页
·改进后结果	第23-24页
·本章小结	第24-25页
第3章 流场的研究与改进	第25-31页
·ESI-CFD软件简介	第25页
·流场模拟计算结果	第25-27页
·改进方案设计	第27-28页
·改进后结果	第28-29页
·本章小结	第29-31页
第4章 化学反应中微观粒子分布问题	第31-40页
·ESI-CFD化学反应模块	第31-34页
·对化学气相沉积系统的模拟计算结果	第34-38页
·减弱导气管预反应改进方案设计	第38-39页
·改进后结果	第39页
·本章小结	第39-40页
第5章 结论	第40-42页
·论文工作总结	第40页
·展望	第40-42页
参考文献	第42-45页
致谢	第45-46页
攻读硕士学位期间发表的论文和成果	第46-47页
作者简介	第47页