| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·VCSEL的发展历程 | 第7-8页 |
| ·VCSEL的发展现状及应用 | 第8-11页 |
| ·光刻工艺在VCSEL中的重要性 | 第11页 |
| ·本论文的主要工作 | 第11-12页 |
| 第二章 VCSEL的结构和相关理论 | 第12-19页 |
| ·VCSEL的结构 | 第12-15页 |
| ·VCSEL的发光原理 | 第15-16页 |
| ·分布布拉格反射镜热电阻分析 | 第16-17页 |
| ·阈值激射条件分析 | 第17-19页 |
| 第三章 光刻工艺 | 第19-30页 |
| ·光刻工艺 | 第19-26页 |
| ·光刻胶化学 | 第26-30页 |
| 第四章 辐射桥结构VCSEL光刻工艺 | 第30-46页 |
| ·基于新型辐射桥结构光刻版的设计 | 第30-32页 |
| ·工艺流程 | 第32-40页 |
| ·“钻蚀夹角”结构的消除 | 第40-43页 |
| ·腐蚀速率的研究 | 第43-46页 |
| 第五章 VCSEL器件性能测试 | 第46-51页 |
| ·阈值电流测试 | 第46-47页 |
| ·P-I-V特性测试 | 第47-48页 |
| ·VCSEL的光谱检测 | 第48-49页 |
| ·光场的测量 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |