| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·表面技术概述 | 第12-15页 |
| ·表面技术的涵义 | 第12-13页 |
| ·表面工程技术的分类 | 第13-14页 |
| ·表面技术相关的工艺以及应用领域 | 第14-15页 |
| ·化学镀基础 | 第15-19页 |
| ·化学镀的发展 | 第15-16页 |
| ·化学镀的分类 | 第16页 |
| ·组成与特点 | 第16-17页 |
| ·化学镀的反应机理 | 第17-18页 |
| ·化学镀的现状与前景 | 第18-19页 |
| ·磁性薄膜的研究进展 | 第19-21页 |
| ·电沉积磁性薄膜 | 第19-20页 |
| ·化学沉积磁性薄膜 | 第20-21页 |
| ·稀土材料学基础 | 第21-26页 |
| ·稀土元素简介 | 第21页 |
| ·稀土元素的性质 | 第21-23页 |
| ·稀土元素在表面处理中的应用 | 第23-24页 |
| ·稀土化学镀钴 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法与条件 | 第26-30页 |
| ·实验方法 | 第26-29页 |
| ·镀液配制 | 第26页 |
| ·工艺流程 | 第26-27页 |
| ·沉积速度的测定 | 第27页 |
| ·成分的测定 | 第27-28页 |
| ·组织结构的测定 | 第28页 |
| ·微观形貌的观察 | 第28页 |
| ·力学性能的测试 | 第28页 |
| ·磁学性能的测试 | 第28页 |
| ·电化学性能的测试 | 第28-29页 |
| ·实验条件 | 第29-30页 |
| ·实验基体材料 | 第29页 |
| ·实验仪器与设备 | 第29-30页 |
| 第三章 化学镀 Co-Ni-P-Ce镀覆工艺及电化学性质的研究 | 第30-40页 |
| ·稀土对沉积速度的影响 | 第30-31页 |
| ·电化学性能 | 第31-38页 |
| ·电化学性能测试技术概述 | 第31-33页 |
| ·还原剂对镀液极化曲线与循环伏安曲线的影响 | 第33-36页 |
| ·稀土含量对镀液极化曲线与循环伏安曲线的影响 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-40页 |
| 第四章 化学镀Co-Ni-P-Ce合金薄膜的成分、结构和微观形貌 | 第40-52页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金镀层的成分检测 | 第40-42页 |
| ·成分测试的原理 | 第40页 |
| ·实验结果及分析 | 第40-42页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金镀层的结构检测 | 第42-47页 |
| ·X射线衍射结果及分析 | 第42-44页 |
| ·透射电镜结果及分析 | 第44-47页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金镀层的微观形貌观察 | 第47-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第五章 化学镀Co-Ni-P-Ce合金薄膜的性能 | 第52-62页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的力学性能 | 第52-53页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的显微硬度 | 第52-53页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的磁学性能 | 第53-62页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的磁滞回线 | 第54-56页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的矫顽力 | 第56-57页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的磁导率 | 第57-59页 |
| ·Co-Ni-P-Ce合金薄膜的磁化强度 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 撰写及发表论文情况 | 第69页 |