摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章研究背景及其方向 | 第9-34页 |
·太阳电池的研究状况 | 第9-14页 |
·世界太阳电池的发展及趋势 | 第9-12页 |
·我国太阳电池的发展及趋势 | 第12-14页 |
·我国研发太阳电池是走可持续发展道路的迫切需要 | 第12页 |
·我国太阳电池研究进展及趋势 | 第12-14页 |
·晶体硅太阳电池 | 第14-16页 |
·薄膜太阳电池 | 第16-27页 |
·硅薄膜太阳电池 | 第16-19页 |
·非晶硅薄膜太阳电池 | 第16-18页 |
·多晶硅薄膜太阳电池 | 第18-19页 |
·半导体化合物薄膜电池 | 第19-27页 |
·CdTe 薄膜太阳电池 | 第19-23页 |
·CIGS 薄膜太阳电池 | 第23-24页 |
·III—V 族化合物薄膜太阳电池 | 第24-25页 |
·有机薄膜太阳电池 | 第25-26页 |
·染料敏化TiO_2纳米薄膜太阳电池 | 第26-27页 |
·第三代太阳电池 | 第27-33页 |
·SnO_2薄膜的性质 | 第28-29页 |
·SnO_2 薄膜的应用领域 | 第29-31页 |
·未掺杂 SnO_2薄膜作为HRT 在CdTe 太阳电池中的应用 | 第31-33页 |
·本文目的 | 第33-34页 |
第二章 SnO_2 薄膜的制备研究 | 第34-50页 |
·前言 | 第34页 |
·常用沉积方法比较 | 第34-38页 |
·物理气相沉积法 | 第34-36页 |
·真空蒸发沉积 | 第34-35页 |
·溅射沉积 | 第35页 |
·脉冲激光 | 第35-36页 |
·溶胶-凝胶法 | 第36页 |
·化学气相沉积 | 第36-38页 |
·等离子体增强化学气相沉积法(PECVD) | 第37-38页 |
·金属有机化合物化学气相沉积法(MOCVD) | 第38页 |
·沉积薄膜的热力学和动力学分析 | 第38-42页 |
·薄膜沉积的热力学分析 | 第38-39页 |
·薄膜生长的动力学分析 | 第39-40页 |
·气相化学反应 | 第39-40页 |
·表面吸附及表面化学反应 | 第40页 |
·薄膜表面原子的扩散作用 | 第40-41页 |
·PECVD 法的动力学过程 | 第41-42页 |
·PECVD 沉积设备的设计和结构 | 第42-43页 |
·PECVD 法制备未掺杂 SnO_2薄膜工艺研究 | 第43-49页 |
·清洗衬底 | 第43页 |
·PECVD 法制备未掺杂 SnO_2薄膜工艺研究 | 第43-46页 |
·PECVD 法制备未掺杂 SnO_2薄膜原理 | 第43-44页 |
·未掺杂 SnO_2薄膜的沉积过程 | 第44-45页 |
·气体流量对薄膜沉积的影响 | 第45页 |
·沉积温度对薄膜沉积的影响 | 第45-46页 |
·SnO_2薄膜的退火热处理 | 第46-49页 |
·退火的工艺设备 | 第47页 |
·退火温度的选择 | 第47-49页 |
·本章小节 | 第49-50页 |
第三章 SnO_2 薄膜的表征研究 | 第50-59页 |
·X 射线衍射方法(XRD)结构分析 | 第50-51页 |
·SnO_2薄膜的XPS 分析 | 第51-53页 |
·SnO_2薄膜的光学性能 | 第53-55页 |
·SnO_2薄膜的表面形貌分析 | 第55-56页 |
·SnO_2薄膜的电学性质 | 第56-57页 |
·本章小节 | 第57-59页 |
第四章 SnO_2薄膜在CdTe 太阳电池上的应用 | 第59-71页 |
·前言 | 第59页 |
·太阳电池的基本工作原理 | 第59-63页 |
·光伏效应 | 第59-61页 |
·pn 结作用及其伏安特性 | 第61页 |
·太阳电池主要参数 | 第61-63页 |
·CdTe 太阳电池 | 第63-65页 |
·CdTe 薄膜太阳电池的结构以及主要工艺 | 第64-65页 |
·TCO 薄膜制备 | 第64页 |
·水浴法沉积CdS 薄膜 | 第64-65页 |
·近空间升华沉积CdTe 薄膜 | 第65页 |
·HRT 在CdTe 太阳电池中的作用 | 第65-67页 |
·分析在未掺杂 SnO_2薄膜在CdTe 太阳电池上的作用 | 第67-69页 |
·未掺杂 SnO_2薄膜与TCO 的界面分析 | 第67-68页 |
·未掺杂 SnO_2薄膜与CdS 层的界面分析 | 第68-69页 |
·制备的电池性能比较 | 第69页 |
·结果分析 | 第69-70页 |
·本章小节 | 第70-71页 |
第五章 总结 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-76页 |
作者在读期间科研成果简介 | 第76-77页 |
致谢 | 第77-78页 |