适用于多层膜高频SAW器件的AlN薄膜制备与表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-14页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-12页 |
| ·声表面波技术简介 | 第9页 |
| ·声表面波器件结构及特点 | 第9-10页 |
| ·多层膜结构的SAWF | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·本文的立论依据和具体内容 | 第12-14页 |
| 第二章 金刚石薄膜的制备 | 第14-28页 |
| ·薄膜简介 | 第14页 |
| ·金刚石薄膜的结构和性质 | 第14-17页 |
| ·化学气相沉积金刚石薄膜 | 第17-21页 |
| ·直流等离子体喷射法 | 第17-19页 |
| ·微波等离子体CVD法 | 第19-20页 |
| ·热丝CVD法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的机理综述 | 第21-27页 |
| ·金刚石形核 | 第21-22页 |
| ·金刚石的生长 | 第22-23页 |
| ·工艺参数与直流喷射CVD金刚石膜质量的关系 | 第23-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第三章 AlN薄膜概述 | 第28-32页 |
| ·AlN薄膜材料结构和特性 | 第28-29页 |
| ·AlN薄膜制备方法简介 | 第29-32页 |
| 第四章 AlN薄膜制备技术 | 第32-39页 |
| ·射频磁控溅射 | 第32-38页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第32-35页 |
| ·溅射机理 | 第35-36页 |
| ·溅射参量 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第五章 AlN薄膜的制备与表征 | 第39-54页 |
| ·AlN薄膜的制备 | 第39-41页 |
| ·实验装置 | 第39-40页 |
| ·衬底的清洗 | 第40页 |
| ·制备AlN薄膜的实验步骤 | 第40-41页 |
| ·硅衬底上AlN薄膜的表征 | 第41-49页 |
| ·功率对AlN薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| ·氩氮比对AlN薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| ·工作气压对AIN薄膜性能的影响 | 第47-49页 |
| ·金刚石衬底上AlN薄膜的表征 | 第49-53页 |
| ·不同溅射功率对薄膜的影响 | 第51-52页 |
| ·不同衬底温度对薄膜的影响 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-57页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·未来展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 硕士期间发表论文及参与科研 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
