| 前言 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·油田三次采油技术 | 第8-12页 |
| ·三元复合驱采油技术的矿场试验研究 | 第8-9页 |
| ·油田防垢技术 | 第9-12页 |
| ·硅酸盐化学 | 第12-16页 |
| ·硅 | 第12-14页 |
| ·硅酸及硅酸盐 | 第14-15页 |
| ·硅酸聚合理论与“W”轨迹 | 第15-16页 |
| ·本论文的研究构想 | 第16-17页 |
| 第二章 三元复合驱硅结垢的物理和化学过程分析 | 第17-23页 |
| ·本章概述 | 第17页 |
| ·地质特征分析 | 第17-18页 |
| ·碱与地层的化学反应 | 第18-20页 |
| ·地层岩石的碱溶机理 | 第18-19页 |
| ·石英的碱溶机理 | 第19页 |
| ·地层岩石的碱溶反应 | 第19-20页 |
| ·碱与地下流体的主要反应 | 第20页 |
| ·硅酸生成及其聚合过程（硅垢的形成过程） | 第20-22页 |
| ·硅酸的生成 | 第20页 |
| ·多聚硅酸的生成 | 第20-21页 |
| ·硅酸凝胶的生成 | 第21页 |
| ·无定型二氧化硅的生成 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 硅离子成垢过程的显微形貌学研究 | 第23-49页 |
| ·本章概述 | 第23页 |
| ·实验部分 | 第23-25页 |
| ·实验仪器 | 第23-24页 |
| ·主要试剂 | 第24页 |
| ·模拟工作液的配制 | 第24页 |
| ·实验步骤 | 第24-25页 |
| ·结果与分析 | 第25-48页 |
| ·高浓度硅体系研究 | 第25-28页 |
| ·中浓度硅体系研究 | 第28-34页 |
| ·加入钙、镁离子的低浓度硅体系研究 | 第34-39页 |
| ·加入钙、镁离子及聚丙烯酰胺的低浓度硅体系研究 | 第39-42页 |
| ·加入钙、镁离子及表面活性剂的低浓度硅体系研究 | 第42-45页 |
| ·加入钙、镁离子、聚丙烯酰胺及表面活性剂的低浓度硅体系研究 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 三元复合驱硅垢形成过程影响因素研究 | 第49-79页 |
| ·本章概述 | 第49页 |
| ·影响因素及实验条件 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·主要试剂 | 第50页 |
| ·实验方法 | 第50-51页 |
| ·实验仪器 | 第51-52页 |
| ·实验步骤 | 第52页 |
| ·结果与分析 | 第52-77页 |
| ·单一硅离子体系研究 | 第52-59页 |
| ·钙、镁离子对硅离子成垢的影响 | 第59-67页 |
| ·铝离子对硅离子成垢的影响 | 第67-71页 |
| ·聚丙烯酰胺对硅离子成垢的影响 | 第71-74页 |
| ·表面活性剂对硅离子成垢的影响 | 第74-76页 |
| ·摩擦力对硅离子成垢的影响 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 硅垢的表征与测试 | 第79-88页 |
| ·本章概述 | 第79页 |
| ·实验仪器 | 第79页 |
| ·结果与分析 | 第79-87页 |
| ·纯硅酸钠晶体分析 | 第79-82页 |
| ·单一硅离子体系的垢样分析 | 第82-85页 |
| ·含钙、镁离子硅酸钠体系的混合垢样分析 | 第85-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 结论 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-94页 |
| 中文详细摘要 | 第94-98页 |