摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
·概述 | 第10-11页 |
·Fe-Cr-Al 电热合金的国内外研究现状 | 第11-13页 |
·铁铬铝电热合金绝缘膜中α- A1_20_3 结构性能 | 第13-15页 |
·制备氧化绝缘膜的主要方法 | 第15-22页 |
·热喷涂法 | 第15-17页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
·物理气相沉积法(PVD) | 第18页 |
·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
·离子注入法 | 第19-20页 |
·阳极氧化法 | 第20-21页 |
·微弧氧化法 | 第21-22页 |
·本论文研究的意义与内容 | 第22-23页 |
第二章 实验过程与实验方法 | 第23-30页 |
·实验设计思路 | 第23页 |
·实验样品选择 | 第23页 |
·实验设备 | 第23-24页 |
·实验原料 | 第24-25页 |
·样品制备 | 第25-28页 |
·直接氧化法制备铁铬铝绝缘膜 | 第25-26页 |
·表面液浸熔盐法制备铁铬铝绝缘膜 | 第26-27页 |
·阳极氧化法制备铁铬铝绝缘膜 | 第27-28页 |
·样品表征方法 | 第28-30页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
·场发射-扫描电子显微镜(FE-SEM) | 第29-30页 |
第三章 直接氧化法制备铁铬铝绝缘膜 | 第30-41页 |
·前言 | 第30-31页 |
·实验过程 | 第31-32页 |
·实验材料 | 第31页 |
·样品预处理 | 第31页 |
·直接氧化方案 | 第31-32页 |
·实验设备 | 第32页 |
·电阻表 | 第32页 |
·质量增重曲线分析 | 第32-34页 |
·氧化膜表面微观形貌分析 | 第34-36页 |
·EDS 能谱分析 | 第36-38页 |
·绝缘层XRD 分析 | 第38-39页 |
·绝缘膜形成机理的探讨 | 第39-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第四章 液浸熔盐法制备铁铬铝表面绝缘膜 | 第41-47页 |
·前言 | 第41页 |
·样品的制备 | 第41-42页 |
·绝缘层表面形貌分析 | 第42-43页 |
·绝缘层EDS 能谱分析 | 第43-44页 |
·绝缘层XRD 及抗氧化机理分析 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第五章 阳极氧化法制备铁铬铝绝缘膜 | 第47-54页 |
·前言 | 第47页 |
·样品制备 | 第47-48页 |
·结果与讨论 | 第48-53页 |
·恒流阳极氧化的实验过程 | 第48页 |
·阳极氧化膜的显微组织 | 第48-49页 |
·恒流阳极氧化前后膜的组成相对比分析 | 第49-51页 |
·腐蚀结果分析 | 第51-52页 |
·表面绝缘机理分析 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第六章 总结与展望 | 第54-56页 |
·本文主要结论 | 第54-55页 |
·后期工作展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
攻读硕士期间已发表的论文 | 第62页 |