板坯连铸结晶器内熔体流动的PIV分析
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 前言 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·研究结晶器内熔体流动的意义 | 第9-11页 |
| ·浸入式水口(SEN) | 第11页 |
| ·流动显示技术及流场测量方法 | 第11-12页 |
| ·国内外关于结晶器内流场的研究动态 | 第12-15页 |
| ·国外对流场的研究 | 第12-13页 |
| ·国内流场的研究 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究目标和主要工作内容 | 第15-16页 |
| 2 PIV物理模拟系统 | 第16-26页 |
| ·物理模拟和相似准则 | 第16-17页 |
| ·PIV测试的基本原理 | 第17-19页 |
| ·粒子的选择 | 第19-20页 |
| ·PIV硬件系统 | 第20-24页 |
| ·激光光源系统 | 第20-21页 |
| ·激光器电源 | 第21-22页 |
| ·同步控制器 | 第22页 |
| ·计算机 | 第22页 |
| ·CCD相机 | 第22-23页 |
| ·图像采集板 | 第23-24页 |
| ·PIV软件系统 | 第24-26页 |
| 3 PIV物理模型系统设计 | 第26-34页 |
| ·模型设计 | 第26-27页 |
| ·模型材料的选择 | 第26页 |
| ·结晶器模型结构设计 | 第26-27页 |
| ·水口设计 | 第27-30页 |
| ·交流片光源系统设计 | 第30-31页 |
| ·水循环系统设计 | 第31-34页 |
| 4 实验 | 第34-41页 |
| ·实验内容 | 第34页 |
| ·实验过程 | 第34-41页 |
| ·模型内流量和液位控制 | 第34-35页 |
| ·激光调节 | 第35-36页 |
| ·同步器控制 | 第36-37页 |
| ·相机控制 | 第37-38页 |
| ·示踪粒子添加 | 第38页 |
| ·图像记录和图像处理 | 第38-40页 |
| ·交流片光源下流场实验 | 第40-41页 |
| 5 实验结果与讨论 | 第41-63页 |
| ·参数标定及流场结构优化的目标 | 第41-44页 |
| ·激光系统下的PIV物理模拟实验 | 第44-62页 |
| ·不同水口倾角下的流场 | 第44-49页 |
| ·浸入深度对流场的影响 | 第49-53页 |
| ·拉坯速度对流场的影响 | 第53-56页 |
| ·不同井深水口的流场 | 第56-59页 |
| ·水口内径对流场的影响 | 第59-61页 |
| ·水口凹井结构对流场的影响 | 第61-62页 |
| ·交流片光源下的物理模拟结果 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第71页 |
