| 第一部分 综述 | 第1-18页 |
| 1. 引言 | 第9-11页 |
| ·化学发光分析方法的基本原理 | 第9页 |
| ·影响化学发光强度的主要因素 | 第9-11页 |
| 2. 化学发光反应微环境的修饰及其分析应用研究进展 | 第11-15页 |
| 3. 研究思路 | 第15-18页 |
| 第二部分 研究报告 | 第18-53页 |
| 1. 基于预阳极化方法修饰石墨电极表面电化学发光反应微环境的研究及法莫替丁的测定 | 第18-33页 |
| 2. 基于预阳极化方法修饰石墨电极表面电化学发光反应微环境的研究及卡托普利的测定 | 第33-42页 |
| 3. 复合膜修饰石墨电极表面电化学发光反应微环境的研究及克仑特罗的测定 | 第42-53页 |
| 总结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 研究成果 | 第64页 |