| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 综述 | 第10-23页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·掩模板测量概述 | 第11-18页 |
| ·分子测量机简介 | 第12-13页 |
| ·PTB 两维掩模板测量仪LMS-2020 简介 | 第13-14页 |
| ·计量型原子力显微镜简介 | 第14-15页 |
| ·双频干涉共焦显微镜 | 第15-16页 |
| ·共光路外差干涉共焦系统 | 第16-17页 |
| ·偏振外差干涉共焦显微线宽测量系统 | 第17-18页 |
| ·关于双反射膜双频激光器 | 第18-20页 |
| ·论文工作目标和内容 | 第20-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 中频差双反射膜双频激光器的研究 | 第23-45页 |
| ·双反射膜双频激光器简介 | 第23-26页 |
| ·双反射膜双频激光的产生机理 | 第23-25页 |
| ·双反射膜双频激光器的频差 | 第25-26页 |
| ·双反射膜双频激光器输出光的偏振特性分析 | 第26-39页 |
| ·仅一端有双反射作用腔镜且无横向磁场作用 | 第28页 |
| ·无双反射膜作用的激光腔在横向磁场作用下 | 第28-29页 |
| ·仅一端镜有双反射膜的激光腔在横向磁场作用下 | 第29-36页 |
| ·两端都有双反射作用的激光腔在横向磁场作用下 | 第36-39页 |
| ·关于双反射膜双频激光理论分析的讨论 | 第39页 |
| ·相关实验 | 第39-44页 |
| ·无横向磁场作用下激光腔的输出光特性 | 第39-40页 |
| ·横向磁场作用下的激光腔输出光特性 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 用于掩模板测量的大范围纳米定位扫描工作台设计 | 第45-63页 |
| ·总体结构分析 | 第45-48页 |
| ·大范围纳米定位扫描工作台设计方案 | 第48-61页 |
| ·双频激光平面镜干涉仪 | 第48-54页 |
| ·精密二维微动工作台 | 第54-56页 |
| ·承重压盖 | 第56-57页 |
| ·平面镜承载机构 | 第57页 |
| ·磁力卸载装置 | 第57-59页 |
| ·大范围纳米定位扫描工作台的实现方案 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 实验结果 | 第63-76页 |
| ·中频差双反射膜双频激光器的稳频 | 第63-65页 |
| ·激光器的拍频稳定性实验 | 第63-64页 |
| ·激光器光频稳定性测试 | 第64-65页 |
| ·掩模板测量仪的总机联调 | 第65-74页 |
| ·联调后掩模板测量仪总体框图示意图 | 第65-66页 |
| ·纳米定位工作台的性能测试 | 第66-68页 |
| ·系统稳定性实验 | 第68-69页 |
| ·纳米工作台逐点定位测试 | 第69-71页 |
| ·刻线边沿定位和刻线间距测量实验 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 误差分析 | 第76-80页 |
| ·大范围纳米定位扫描工作台误差分析 | 第76-78页 |
| ·激光频率不稳定引入的误差 | 第76页 |
| ·空气折射率变化引入的误差 | 第76-77页 |
| ·非线性误差 | 第77页 |
| ·环境因素引入的漂移 | 第77-78页 |
| ·信号处理电路引入的误差 | 第78页 |
| ·误差合成 | 第78页 |
| ·刻线边沿瞄准误差 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第六章 工作总结 | 第80-82页 |
| ·主要创新点 | 第80页 |
| ·完成的其他主要工作 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
| 声明 | 第90-91页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第91-92页 |
| 个人简历 | 第91页 |
| 研究成果及发表论文 | 第91-92页 |