磁控溅射法制备硼薄膜和硼纳米线
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-29页 |
| ·低维纳米材料的概述 | 第8-17页 |
| ·纳米材料的基本概念 | 第8-9页 |
| ·低维纳米材料的特性 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的发展历程 | 第10-12页 |
| ·纳米薄膜简介 | 第12-17页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的理论基础 | 第17-22页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第17-20页 |
| ·磁控溅射法制备纳米薄膜的基本理论 | 第20-22页 |
| ·硼简述 | 第22-25页 |
| ·纳米压痕计简介 | 第25-27页 |
| ·纳米压痕技术简介 | 第25页 |
| ·纳米压痕技术的应用 | 第25-27页 |
| ·本论文选题的意义及研究内容 | 第27-29页 |
| ·硼薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·硼纳米线的制备 | 第28-29页 |
| 第2章 磁控溅射法制备硼纳米晶体薄膜 | 第29-44页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验方法 | 第29-33页 |
| ·实验设备 | 第29-32页 |
| ·实验过程 | 第32-33页 |
| ·实验结果与分析 | 第33-43页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第33-35页 |
| ·薄膜成份与晶体结构分析 | 第35-39页 |
| ·薄膜纳米硬度与弹性模量分析 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 磁控溅射法制备硼纳米非晶薄膜 | 第44-56页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-55页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第45-47页 |
| ·薄膜成份与非晶结构分析 | 第47-52页 |
| ·薄膜纳米硬度与弹性模量分析 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 磁控溅射法在硼薄膜上制备硼纳米线 | 第56-70页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·实验方法 | 第56-57页 |
| ·实验结果与分析 | 第57-68页 |
| ·纳米线和纳米薄膜的成份、结构表征 | 第57-61页 |
| ·不同基片温度对纳米线生长的影响 | 第61-63页 |
| ·不同溅射时间对纳米线生长的影响 | 第63-65页 |
| ·不同气体压力对纳米线生长的影响 | 第65-67页 |
| ·纳米线的生长机制研究 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 作者简介 | 第77页 |
