解耦技术在工业窑炉控制系统中的应用研究
第一章 绪论 | 第1-11页 |
1.1 课题来源 | 第7页 |
1.2 课题研究的目的和意义 | 第7-8页 |
1.3 国内外研究现状分析 | 第8-9页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第9-11页 |
第二章 解耦技术及窑炉系统的概述 | 第11-19页 |
2.1 解耦控制技术概述 | 第11-15页 |
2.1.1 传统解耦控制 | 第11页 |
2.1.2 自适应解耦控制 | 第11-12页 |
2.1.3 智能解耦控制 | 第12-14页 |
2.1.4 非线性与鲁棒解耦 | 第14-15页 |
2.2 陶瓷窑炉系统概述 | 第15-17页 |
2.3 陶瓷窑炉系统控制现状 | 第17-19页 |
2.3.1 我国陶瓷窑炉的控制方式 | 第17-18页 |
2.3.2 目前国内、外窑炉控制情况 | 第18-19页 |
第三章 陶瓷工业窑炉的烧成制度 | 第19-27页 |
3.1 气氛制度 | 第19-20页 |
3.2 温度制度 | 第20-22页 |
3.2.1 工艺质量和设备使用特点 | 第20-21页 |
3.2.2 单成瓷点烧成方法的使用 | 第21页 |
3.2.3 急冷区温度 | 第21-22页 |
3.2.4 升降温速率 | 第22页 |
3.3 压力制度 | 第22-24页 |
3.3.1 窑内本身的压力制度 | 第22-23页 |
3.3.2 陶瓷窑炉的其它压力制度 | 第23-24页 |
3.4 压力制度与温度制度的关系 | 第24-25页 |
3.5 现代陶瓷窑炉中烧成制度的确定原则 | 第25-27页 |
第四章 气氛与温度的耦合 | 第27-36页 |
4.1 气氛的控制 | 第27-30页 |
4.1.1 燃气热值与空燃比的关系 | 第27-28页 |
4.1.2 空燃比与窑内气氛的关系 | 第28-29页 |
4.1.3 气氛的控制特性 | 第29-30页 |
4.2 气氛温度的理论计算 | 第30-31页 |
4.3 气氛与温度的耦合 | 第31-36页 |
第五章 气氛与温度的模糊解耦 | 第36-52页 |
5.1 解耦控制策略 | 第36页 |
5.2 气氛模糊控制器的设计 | 第36-44页 |
5.2.1 模糊控制原理及模糊控制器基本结构 | 第37-38页 |
5.2.2 气氛模糊控制模型的建立 | 第38-44页 |
5.3 温度模糊PID控制器的设计 | 第44-49页 |
5.3.1 Fuzzy控制器 | 第45-47页 |
5.3.2 PID控制部分 | 第47-48页 |
5.3.3 Fuzzy-PID控制器的仿真 | 第48-49页 |
5.4 气氛温度解耦控制器 | 第49-52页 |
第六章 结论及有关问题的讨论 | 第52-54页 |
6.1 结论 | 第52页 |
6.2 有关问题的讨论 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
附录 | 第59页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第59页 |
攻读学位期间参与的科研项目 | 第59页 |