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折射型微透镜及微透镜阵列光学性质与制作技术的研究

第一章 引言第1-28页
   ·微透镜与微透镜阵列第8-9页
   ·衍射型微透镜与衍射型微透镜阵列第9-11页
   ·折射型微透镜与折射型微透镜阵列第11-27页
     ·亚微米折射型微透镜与微透镜阵列第12-17页
     ·传统折射型微透镜阵列第17-27页
   ·本论文的主要工作第27-28页
第二章 亚微米微球体透镜与微椭球体透镜光学性质的研究第28-43页
   ·亚微米微球体透镜光学性质的研究第28-37页
     ·Mie 散射理论第28-30页
     ·散射光的偏振第30-33页
     ·微球体半径a 对散射光电场分布的影响第33页
     ·入射光波长λ对散射光电场分布的影响第33-34页
     ·相对折射率m 对散射光电场分布的影响第34-36页
     ·微球体透镜的聚焦性能第36页
     ·归一化散射截面、归一化消光截面与归一化吸收截面第36-37页
   ·微椭球体透镜光学性质的研究第37-42页
     ·Eikonal 近似方法第37-38页
     ·用Eikonal近似方法确定等效球的半径和折射率第38-39页
     ·椭球位置(θ_0、φ_0)对散射光强分布的影响第39-40页
     ·椭球离心率变化对散射光强分布的影响第40页
     ·入射光波长变化对散射光强分布的影响第40-41页
     ·椭球聚光性能与其外切球和内接球的比较第41-42页
   ·小结第42-43页
第三章半球结构亚微米微透镜阵列光学性质的研究第43-57页
   ·概述第43页
   ·严格的耦合波理论第43-50页
   ·结果与分析第50-56页
   ·小结第56-57页
第四章光刻胶热熔法制作微透镜阵列技术的研究第57-88页
   ·概述第57-63页
     ·基片预处理、涂胶和前烘第57-59页
     ·曝光第59-60页
     ·显影、坚膜与测试第60-61页
     ·光刻胶热熔第61-62页
     ·图案转移与复制技术第62-63页
   ·微透镜阵列的各结构参数之间的关系第63-67页
   ·提高折射型微透镜阵列的填充因子与F 数第67-74页
     ·基底预先涂胶法提高微透镜的F 数第67-68页
     ·台阶式多次曝光法第68页
     ·采用光刻胶预成形法第68页
     ·提高微透镜F 数的机理第68-69页
     ·采用缩短显影时间法提高折射型微透镜阵列的填充因子与F 数..第69-74页
   ·利用离子束刻蚀技术制作玻璃微透镜阵列第74-80页
     ·离子束刻蚀物理基础第74-79页
     ·离子束刻蚀对微透镜阵列面形的影响第79-80页
   ·利用折射率匹配层增大微透镜的焦距与F 数第80-82页
   ·柱透镜阵列与闪耀光栅制作工艺的研究第82-87页
     ·全息-离子束刻蚀法制作闪耀光栅技术的研究第82-86页
     ·全息-热熔-离子束刻蚀法制作柱透镜阵列工艺的探索第86-87页
   ·小结第87-88页
第五章 总结与展望第88-90页
   ·总结第88页
   ·展望第88-90页
参考文献第90-102页
致谢第102-103页
作者简介第103-104页
在读期间发表和待发表的学术论文第104-106页
博士学位论文原创性声明第106页

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