第一章 引言 | 第1-28页 |
·微透镜与微透镜阵列 | 第8-9页 |
·衍射型微透镜与衍射型微透镜阵列 | 第9-11页 |
·折射型微透镜与折射型微透镜阵列 | 第11-27页 |
·亚微米折射型微透镜与微透镜阵列 | 第12-17页 |
·传统折射型微透镜阵列 | 第17-27页 |
·本论文的主要工作 | 第27-28页 |
第二章 亚微米微球体透镜与微椭球体透镜光学性质的研究 | 第28-43页 |
·亚微米微球体透镜光学性质的研究 | 第28-37页 |
·Mie 散射理论 | 第28-30页 |
·散射光的偏振 | 第30-33页 |
·微球体半径a 对散射光电场分布的影响 | 第33页 |
·入射光波长λ对散射光电场分布的影响 | 第33-34页 |
·相对折射率m 对散射光电场分布的影响 | 第34-36页 |
·微球体透镜的聚焦性能 | 第36页 |
·归一化散射截面、归一化消光截面与归一化吸收截面 | 第36-37页 |
·微椭球体透镜光学性质的研究 | 第37-42页 |
·Eikonal 近似方法 | 第37-38页 |
·用Eikonal近似方法确定等效球的半径和折射率 | 第38-39页 |
·椭球位置(θ_0、φ_0)对散射光强分布的影响 | 第39-40页 |
·椭球离心率变化对散射光强分布的影响 | 第40页 |
·入射光波长变化对散射光强分布的影响 | 第40-41页 |
·椭球聚光性能与其外切球和内接球的比较 | 第41-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
第三章半球结构亚微米微透镜阵列光学性质的研究 | 第43-57页 |
·概述 | 第43页 |
·严格的耦合波理论 | 第43-50页 |
·结果与分析 | 第50-56页 |
·小结 | 第56-57页 |
第四章光刻胶热熔法制作微透镜阵列技术的研究 | 第57-88页 |
·概述 | 第57-63页 |
·基片预处理、涂胶和前烘 | 第57-59页 |
·曝光 | 第59-60页 |
·显影、坚膜与测试 | 第60-61页 |
·光刻胶热熔 | 第61-62页 |
·图案转移与复制技术 | 第62-63页 |
·微透镜阵列的各结构参数之间的关系 | 第63-67页 |
·提高折射型微透镜阵列的填充因子与F 数 | 第67-74页 |
·基底预先涂胶法提高微透镜的F 数 | 第67-68页 |
·台阶式多次曝光法 | 第68页 |
·采用光刻胶预成形法 | 第68页 |
·提高微透镜F 数的机理 | 第68-69页 |
·采用缩短显影时间法提高折射型微透镜阵列的填充因子与F 数.. | 第69-74页 |
·利用离子束刻蚀技术制作玻璃微透镜阵列 | 第74-80页 |
·离子束刻蚀物理基础 | 第74-79页 |
·离子束刻蚀对微透镜阵列面形的影响 | 第79-80页 |
·利用折射率匹配层增大微透镜的焦距与F 数 | 第80-82页 |
·柱透镜阵列与闪耀光栅制作工艺的研究 | 第82-87页 |
·全息-离子束刻蚀法制作闪耀光栅技术的研究 | 第82-86页 |
·全息-热熔-离子束刻蚀法制作柱透镜阵列工艺的探索 | 第86-87页 |
·小结 | 第87-88页 |
第五章 总结与展望 | 第88-90页 |
·总结 | 第88页 |
·展望 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-102页 |
致谢 | 第102-103页 |
作者简介 | 第103-104页 |
在读期间发表和待发表的学术论文 | 第104-106页 |
博士学位论文原创性声明 | 第106页 |