WO3薄膜的制备及特性研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-16页 |
| ·传感器的国内外研究现状及发展趋势 | 第8-12页 |
| ·多功能传感器国内外研究现状 | 第12-14页 |
| ·课题选题的目的及意义 | 第14-16页 |
| 第二章 WO_3薄膜的制备方法及器件结构设计 | 第16-26页 |
| ·WO_3 薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·蒸发法 | 第16页 |
| ·溅射法 | 第16-17页 |
| ·CVD 法 | 第17页 |
| ·Sol-Gel 法 | 第17-18页 |
| ·实验设备简述 | 第18-22页 |
| ·真空蒸发设备 | 第18-19页 |
| ·蒸发源 | 第19-21页 |
| ·影响薄膜质量的因素 | 第21-22页 |
| ·衬底的预处理及清洗 | 第22页 |
| ·WO_3 薄膜传感器结构设计 | 第22-23页 |
| ·制作器件的工艺过程 | 第23-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 第三章 WO_3薄膜结构特性的测试与分析 | 第26-36页 |
| ·表面形貌分析 | 第26-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-28页 |
| ·不同退火热处理温度的样品的SEM 分析 | 第26-27页 |
| ·不同衬底温度的样品的SEM 分析 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜 | 第28-30页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第30-34页 |
| ·不同退火热处理温度的X 射线衍射分析 | 第31-34页 |
| ·不同衬底温度的样品的X 射线衍射分析 | 第34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 第四章 测试系统的建立 | 第36-39页 |
| ·测试系统的要求 | 第36页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第36-37页 |
| ·测试系统的整体结构 | 第37-39页 |
| 第五章 WO_3薄膜传感器的敏感特性测试与分析 | 第39-50页 |
| ·WO_3 薄膜元件的湿敏特性 | 第39-40页 |
| ·敏感元件对于NO_2的气敏特性 | 第40-49页 |
| ·气敏元件的重要参数 | 第40-41页 |
| ·机理分析 | 第41-42页 |
| ·工作温度对元件敏感特性的影响 | 第42-45页 |
| ·退火热处理温度对元件敏感特性的影响 | 第45-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第六章 结论与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 个人简历 | 第56-57页 |
| 读研期间发表的论文情况 | 第57页 |
