| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 第一节 类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜概述 | 第10-16页 |
| ·类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜的组成、结构与表征 | 第10-13页 |
| ·类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜的性质和应用 | 第13-14页 |
| ·类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜的制备 | 第14-16页 |
| 第二节 液相电沉积类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜 | 第16-20页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·实验装置及基本原理 | 第17-18页 |
| ·液相电沉积法制备类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
| ·反应机理 | 第19-20页 |
| 第三节 研究前沿、选题意义及主要研究内容 | 第20-23页 |
| ·研究前沿 | 第20-21页 |
| ·选题意义 | 第21-22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 第二章 高电压电解乙腈沉积类金刚石薄膜 | 第26-38页 |
| 第一节 实验部分 | 第26-28页 |
| ·实验装置 | 第26-27页 |
| ·基片的预处理及薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·薄膜的表征 | 第28页 |
| 第二节 结果与讨论 | 第28-36页 |
| ·电沉积过程研究 | 第28-29页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)分析 | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第30-31页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第31-32页 |
| ·Raman光谱分析 | 第32-34页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第34-35页 |
| ·少量水对类金刚石薄膜形成的影响 | 第35-36页 |
| 第三节 小结 | 第36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第三章 温和条件下电解二甲亚砜沉积类金刚石薄膜 | 第38-53页 |
| 第一节 研究背景及可行性论证 | 第38-39页 |
| ·研究背景 | 第38页 |
| ·可行性论证 | 第38-39页 |
| 第二节 电解DMSO在Al片上沉积类金刚石薄膜 | 第39-45页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·基片的预处理及DLC薄膜的电沉积 | 第39-40页 |
| ·薄膜的表征 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-43页 |
| ·电沉积过程研究 | 第40页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第40-42页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第42-43页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第三节 电解DMSO在Si片上沉积类金刚石薄膜 | 第45-51页 |
| ·实验部分 | 第45页 |
| ·DLC薄膜的电沉积 | 第45页 |
| ·薄膜的表征 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-50页 |
| ·电沉积过程研究 | 第45-46页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第46-47页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第47-48页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第48-50页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第四节 沉积机理分析 | 第51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 液相电化学方法沉积掺杂类金刚石薄膜 | 第53-67页 |
| 第一节 研究背景及可行性论证 | 第53-55页 |
| ·研究背景 | 第53-54页 |
| ·可行性论证 | 第54-55页 |
| ·电化学方法沉积铜掺杂类金刚石薄膜(Cu-DLC) | 第54页 |
| ·电化学方法沉积氟掺杂类金刚石薄膜(F-DLC) | 第54-55页 |
| 第二节 液相电化学方法沉积铜掺杂类金刚石薄膜 | 第55-62页 |
| ·实验部分 | 第55-56页 |
| ·高氯酸四个(乙腈)络铜(Ⅰ)的合成 | 第55页 |
| ·铜掺杂类金刚石薄膜的电化学沉积 | 第55-56页 |
| ·薄膜的表征 | 第56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-62页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第56-58页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第58-59页 |
| ·Raman光谱分析 | 第59-60页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第60页 |
| ·TEM及电子衍射分析 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62页 |
| 第三节 液相电化学方法沉积氟掺杂类金刚石薄膜 | 第62-65页 |
| ·实验部分 | 第62页 |
| ·氟掺杂类金刚石薄膜的电化学沉积 | 第62页 |
| ·薄膜的表征 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-65页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第63-64页 |
| ·Raman光谱分析 | 第64-65页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第65页 |
| ·小结 | 第65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第五章 结束语 | 第67-72页 |
| ·类金刚石薄膜及掺杂类金刚石薄膜的沉积机理分析 | 第67-69页 |
| ·主要结论 | 第69页 |
| ·存在问题 | 第69-70页 |
| ·展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 硕士期间发表论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
