第一章 引言 | 第1-17页 |
第一节 ZnO材料的基本性质 | 第9-10页 |
第二节 ZnO材料的研究进展 | 第10-17页 |
·ZnO紫外激光的研究进展 | 第10-12页 |
·ZnO低维纳米结构的研究进展 | 第12-14页 |
·P型ZnO和ZnO同质p-n结的实现 | 第14-15页 |
·ZnO透明导电薄膜的研究进展 | 第15-17页 |
第二章 纳米氧化锌基材料的制备及其表征手段 | 第17-26页 |
第一节 材料制备系统 | 第17-19页 |
·等离子注入装置简介及原理 | 第17-18页 |
·电子束蒸发设备简介及原理 | 第18页 |
·高温退火设备简介 | 第18-19页 |
第二节 材料表征系统 | 第19-26页 |
·X射线衍射谱 | 第19页 |
·X射线光电子能谱 | 第19-21页 |
·透射反射谱 | 第21-22页 |
·微区光致发光谱 | 第22-23页 |
·拉曼光谱 | 第23-24页 |
·Van der Pauw法测试原理 | 第24-26页 |
第三章 CaF2包埋的ZnO纳米晶的结构和光学特性研究 | 第26-39页 |
第一节 实验样品的制备 | 第26-27页 |
第二节 ZnO纳米晶的结构特性 | 第27-28页 |
第三节 ZnO纳米晶的拉曼光谱 | 第28-29页 |
第四节 ZnO纳米晶的光学特性 | 第29-36页 |
·ZnO纳米晶的吸收光谱 | 第29-32页 |
·ZnO纳米晶的室温光致发光谱 | 第32-35页 |
·ZnO纳米晶的变温光致发光谱 | 第35-36页 |
第五节 ZnO紫外发射与CaF2中F心发射的相互作用 | 第36-39页 |
第四章 F钝化的ZnO纳米晶薄膜的结构和光学特性研究 | 第39-50页 |
第一节 实验样品的制备 | 第39页 |
第二节 ZnO:F薄膜的结构特性 | 第39-41页 |
第三节 ZnO:F薄膜的化学组分 | 第41-43页 |
第四节 ZnO:F薄膜的拉曼光谱 | 第43-44页 |
第五节 ZnF2的氧化机理 | 第44页 |
第六节 ZnO:F薄膜的光学特性 | 第44-46页 |
·ZnO:F薄膜的反射光谱 | 第44-45页 |
·ZnO:F薄膜的室温光致发光谱 | 第45-46页 |
第七节 F的钝化效应机制 | 第46-50页 |
·ZnO可见发射机制 | 第46-47页 |
·F淬灭ZnO可见发射的机制 | 第47-50页 |
第五章 F掺杂的ZnO的电学特性研究 | 第50-57页 |
第一节 实验样品的制备 | 第50页 |
第二节 F掺杂的ZnO薄膜的结构特性 | 第50-51页 |
第三节 F掺杂对ZnO薄膜光学带隙的影响 | 第51-54页 |
第四节 F掺杂对ZnO薄膜电学特性的影响 | 第54-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
硕士期间发表论文 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |