| 1 绪论 | 第1-16页 |
| ·课题的来源及发展动态 | 第8-9页 |
| ·课题的来源及主要技术指标 | 第8页 |
| ·电化学用电解电源的发展动态 | 第8-9页 |
| ·课题研究的意义和主要应用领域 | 第9-10页 |
| ·课题研究的主要目的和意义 | 第9页 |
| ·电力电子技术的主要应用领域 | 第9-10页 |
| ·电力电子及其国内外发展状况和发展趋势 | 第10-12页 |
| ·电力电子技术的发展史 | 第10-11页 |
| ·电力电子技术的国内外发展状况及趋势 | 第11-12页 |
| ·食盐水的电解及生产工艺流程 | 第12-16页 |
| ·食盐水的电解 | 第13页 |
| ·食盐水电解的工艺流程 | 第13-14页 |
| ·氯和烧碱的主要用途 | 第14-16页 |
| 2 大电流硅整流装置的系统与分析 | 第16-39页 |
| ·大电流硅整流装置系统 | 第16-19页 |
| ·大电流硅整流装置的特征 | 第16页 |
| ·大电流硅整流装置的系统组成 | 第16-17页 |
| ·硅整流装置的联结型式和调压方式选择 | 第17-19页 |
| ·主回路与控制回路 | 第19-28页 |
| ·主回路与控制回路连接图 | 第19-20页 |
| ·大电流硅整流装置的主回路 | 第20-23页 |
| ·同相逆并联三相桥式晶闸管整流装置的控制回路 | 第23-28页 |
| ·晶闸管触发系统及可靠性分析 | 第28-30页 |
| ·晶闸管触发控制系统 | 第28-30页 |
| ·晶闸管触发控制电路的可靠性 | 第30页 |
| ·晶闸管的触发脉冲封锁保护问题 | 第30页 |
| ·快速熔断器电阻值与电流、温度的实验 | 第30-35页 |
| ·实验方法与分析 | 第31-34页 |
| ·实验的结论 | 第34-35页 |
| ·快速熔断器的发展与应用技术 | 第35页 |
| ·冷却方式 | 第35-37页 |
| ·母线温度保护电路 | 第37-39页 |
| ·保护电路的电路工作原理 | 第37-38页 |
| ·保护电路的特点 | 第38-39页 |
| 3 控制算法的研究和仿真 | 第39-49页 |
| ·控制算法的研究 | 第39-40页 |
| ·PID控制算法及其原理 | 第39-40页 |
| ·数字PID控制算法 | 第40页 |
| ·模糊控制的基础和原理 | 第40-42页 |
| ·模糊控制的基础和特点 | 第40-41页 |
| ·模糊控制的系统结构及其功能 | 第41-42页 |
| ·Fuzzy-PID控制在电解电源温度控制中的实现 | 第42-49页 |
| ·模糊控制系统方框图 | 第43页 |
| ·离散化及标准化 | 第43-44页 |
| ·输出电压离散化，标准化及隶属函数表 | 第44-45页 |
| ·控制规则表 | 第45页 |
| ·控制规则数量关系 | 第45-46页 |
| ·用MATLAB语言仿真 | 第46-49页 |
| 4 硅整流装置的均流 | 第49-56页 |
| ·均流 | 第49页 |
| ·稳态均流和瞬态均流 | 第49页 |
| ·均流系数的求法 | 第49页 |
| ·均流系数的实际测定 | 第49-51页 |
| ·影响均流系数的主要因素 | 第51-53页 |
| ·主电路配置对均流的影响 | 第51-52页 |
| ·并联硅器件通态(或正向)伏安特性差异对均流的影响 | 第52-53页 |
| ·常用的提高均流系数的措施 | 第53-54页 |
| ·正向峰值电压(V_(FM))对均流的影响 | 第54-55页 |
| ·本课题所采取的均流措施 | 第55-56页 |
| 5 谐波的产生和抑制 | 第56-63页 |
| ·谐波的概念、产生、危害及研究的目的 | 第56-58页 |
| ·谐波的概念和谐波的产生 | 第56-57页 |
| ·谐波的危害及影响 | 第57-58页 |
| ·谐波研究的意义和目的 | 第58页 |
| ·谐波的补偿和抑制 | 第58-63页 |
| ·谐波的补偿 | 第58-60页 |
| ·抑制和消除谐波的措施 | 第60-63页 |
| 6 总结 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 附录 硕士研究生学习期间发表的论文 | 第67页 |