摘要 | 第1-13页 |
ABSTRACT | 第13-17页 |
第一章 绪论 | 第17-43页 |
1.1 引言 | 第17-20页 |
1.2 太阳电池的工作原理 | 第20-21页 |
1.3 标准太阳光谱及电池性能的测量 | 第21-22页 |
1.4 硅太阳电池:单晶、多晶和非晶 | 第22-31页 |
1.4.1 单晶硅电池 | 第23-28页 |
1.4.1.1 电池设计 | 第23-24页 |
1.4.1.2 PERL结构电池 | 第24-26页 |
1.4.1.3 背接触电池 | 第26-27页 |
1.4.1.4 丝网印刷电池 | 第27-28页 |
1.4.2 多晶硅薄膜电池 | 第28页 |
1.4.3 非晶硅太阳电池 | 第28-31页 |
1.4.3.1 发展历史 | 第28-29页 |
1.4.3.2 电池的设计 | 第29-31页 |
1.5 化合物半导体电池 | 第31-40页 |
1.5.1 Ⅲ—Ⅴ晶体电池 | 第31-34页 |
1.5.1.1 历史回顾 | 第31-32页 |
1.5.1.2 GaAs电池 | 第32-33页 |
1.5.1.3 InP电池 | 第33页 |
1.5.1.4 串联电池 | 第33-34页 |
1.5.2 多晶薄膜化合物半导体电池 | 第34-40页 |
1.5.2.1 铜铟硒薄膜电池 | 第35-36页 |
1.5.2.2 CdTe电池 | 第36-40页 |
发展历史 | 第36页 |
制备技术 | 第36-37页 |
器件结构 | 第37-38页 |
制备过程 | 第38-39页 |
存在问题和解决方案 | 第39-40页 |
1.6 国内新型太阳电池的研究水平 | 第40-41页 |
1.7 本文目的 | 第41-42页 |
1.8 本文的创新点 | 第42-43页 |
第二章 CdS多晶薄膜的制备及其性能 | 第43-64页 |
2.1 引言 | 第43-44页 |
2.2 CdS多晶薄膜的制备 | 第44-50页 |
2.2.1 实验原理 | 第44-45页 |
2.2.1.1 CBD法 | 第44-45页 |
2.2.1.2 真空蒸发法 | 第45页 |
2.2.2 实验装置 | 第45-47页 |
2.2.2.1 CBD法 | 第45-47页 |
2.2.2.2 真空蒸发法 | 第47页 |
2.2.3 实验方案 | 第47-50页 |
2.2.3.1 CBD法 | 第47-49页 |
衬底的清洗 | 第47-48页 |
成膜溶液 | 第48页 |
实验步骤 | 第48页 |
测试 | 第48-49页 |
2.2.3.2 真空蒸发法 | 第49-50页 |
衬底、蒸发源和蒸发物质 | 第49页 |
测试 | 第49-50页 |
2.3 CdS多晶薄膜的性能 | 第50-60页 |
2.3.1 CBD法制备的CdS薄膜的性能 | 第50-58页 |
2.3.1.1 CdS薄膜的厚度与沉积时间的关系 | 第50页 |
2.3.1.2 CdS薄膜的结构与微观形貌 | 第50-54页 |
CdS薄膜的结构(利用XRD进行物相分析) | 第50-53页 |
CdS薄膜的微观形貌(SEM测试) | 第53-54页 |
2.3.1.3 CdS薄膜的光学性能 | 第54-55页 |
2.3.1.4 CdS薄膜的电学性能 | 第55-58页 |
暗电导、光电导测试 | 第55页 |
退火 | 第55页 |
暗电导、光电导测试结果 | 第55-56页 |
暗电导率-温度的关系 | 第56-58页 |
2.3.2 真空蒸发法制备的CdS薄膜的性能 | 第58-60页 |
2.3.2.1 CdS薄膜的结构与微观形貌 | 第58-59页 |
CdS薄膜的结构(利用XRD进行物相分析) | 第58-59页 |
CdS薄膜的微观形貌(利用SEM进行微观形貌分析) | 第59页 |
2.3.2.2 CdS薄膜的光学性能 | 第59-60页 |
2.4 CdS多晶薄膜的后处理 | 第60-61页 |
2.5 影响CdS成膜质量的几个主要因素 | 第61-62页 |
2.5.1 衬底 | 第61页 |
2.5.2 反应溶液浓度 | 第61页 |
2.5.3 反应物质的量 | 第61页 |
2.5.4 反应时间 | 第61-62页 |
2.5.5 反应温度 | 第62页 |
2.5.6 磁转子的转速 | 第62页 |
2.5.7 PH值 | 第62页 |
2.6 小结 | 第62-64页 |
第三章 CdTe多晶薄膜的制备及其性能 | 第64-92页 |
3.1 引言 | 第64-65页 |
3.2 CdTe多晶薄膜的制备 | 第65-81页 |
3.2.1 实验原理 | 第65-66页 |
3.2.2 实验装置 | 第66-67页 |
3.2.3 实验步骤 | 第67页 |
衬底的清洗 | 第67页 |
安放衬底、抽真空、加热等 | 第67页 |
3.2.4 实验方案 | 第67-69页 |
1.确定CdTe的升华温度、沉积温度 | 第67-68页 |
2.确定CdS的升华温度 | 第68页 |
3.确定CdTe的升温曲线 | 第68页 |
4.初步确定CdTe薄膜小沙眼的成因 | 第68页 |
5.确定CdTe/石墨源能否替代CdTe/石英源 | 第68-69页 |
3.2.5 实验结果 | 第69-81页 |
1.确定CdTe的升华温度、沉积温度 | 第69-72页 |
2.确定CdS的升华温度 | 第72-74页 |
3.确定CdTe的升温曲线 | 第74-75页 |
4.初步确定CdTe薄膜小沙眼的成因 | 第75-79页 |
5.确定CdTe/石墨源能否替代CdTe/石英源 | 第79-81页 |
3.3 CdTe多晶薄膜的性能 | 第81-90页 |
3.3.1 表面形貌 | 第81-82页 |
3.3.2 XRD谱分析 | 第82-83页 |
3.3.3 CdTe薄膜的后处理 | 第83-84页 |
3.3.3.1 处理步骤 | 第83页 |
3.3.3.2 形貌观测(AFM) | 第83-84页 |
3.3.3.3 XRD结构分析 | 第84页 |
3.3.4 CdTe多晶薄膜的光学性能 | 第84-86页 |
3.3.5 CdTe薄膜的电学性能 | 第86-90页 |
3.3.5.1 CdTe薄膜的光暗电导率比和电导激活能 | 第86-88页 |
3.3.5.2 CdTe薄膜的霍耳效应 | 第88-90页 |
3.4 影响CdTe成膜质量的主要因素 | 第90-91页 |
1.衬底 | 第90页 |
2.源片 | 第90页 |
3.O_2/Ar+O_2 | 第90页 |
4.O_2/Ar+O_2的气压 | 第90页 |
5.氧分压(P_(O_2)) | 第90页 |
6.上、下温差 | 第90页 |
7.沉积温度 | 第90-91页 |
8.保温时间 | 第91页 |
3.5 小结 | 第91-92页 |
第四章 CdS/CdTe化合物半导体太阳电池器件的研究 | 第92-113页 |
4.1 引言 | 第92-93页 |
4.2 太阳电池的工作原理 | 第93-96页 |
4.2.1 光伏效应 | 第93页 |
4.2.2 pn结伏安特性 | 第93-94页 |
4.2.3 太阳电池的性能参量 | 第94-96页 |
4.3 透明导电膜(TCO) | 第96-97页 |
4.4 高阻膜(HRT) | 第97-99页 |
4.5 CdS多晶薄膜 | 第99-100页 |
4.6 CdS_xTe_(1-x)多晶薄膜插入层 | 第100-102页 |
4.7 CdTe多晶薄膜 | 第102-104页 |
4.8 ZnTe(ZnTe:Cu)多晶薄膜 | 第104-109页 |
4.9 背电极 | 第109-110页 |
4.10 高转换效率的CdS/CdTe太阳电池 | 第110-111页 |
4.11 小结 | 第111-113页 |
第五章 CdS/CdTe太阳电池的物理模型及新结构 | 第113-132页 |
5.1 引言 | 第113页 |
5.2 太阳电池基本方程及求解 | 第113-123页 |
5.2.1 太阳电池基本方程 | 第113-115页 |
5.2.2 电子和空穴浓度 | 第115页 |
5.2.3 杂质能级和杂质带 | 第115-119页 |
5.2.4 载流子的产生与复合 | 第119-121页 |
5.2.4.1 载流子的产生 | 第119页 |
5.2.4.2 载流子复合 | 第119-121页 |
5.2.5 太阳电池基本方程求解 | 第121-123页 |
5.3 CdS/CdTe多晶薄膜太阳电池器件模拟 | 第123-126页 |
5.3.1 CdS多晶薄膜的厚度、载流子浓度及寿命 | 第123-124页 |
5.3.2 CdTe多晶薄膜的厚度、载流子浓度及寿命 | 第124-126页 |
5.4 减反射膜 | 第126-129页 |
5.4.1 减反射膜的作用原理 | 第126-128页 |
5.4.2 减反射膜材料的选择 | 第128-129页 |
5.5 CdS/CdTe太阳电池的新结构 | 第129-131页 |
5.6 小结 | 第131-132页 |
第六章 太阳电池的前瞻性介绍 | 第132-141页 |
6.1 引言 | 第132-133页 |
6.2 太阳电池的转换效率 | 第133-135页 |
禁带宽度 | 第134-135页 |
温度 | 第135页 |
少数载流子的寿命 | 第135页 |
掺杂浓度及其分布 | 第135页 |
光强 | 第135页 |
串联电阻 | 第135页 |
6.3 第三代太阳电池 | 第135-136页 |
6.4 零带差超晶格 | 第136-138页 |
6.5 小结与展望 | 第138-141页 |
第七章 总结 | 第141-146页 |
参考文献 | 第146-155页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第155页 |
第一作者(4篇) | 第155页 |
非第一作者:(12篇) | 第155页 |
参加的科研项目 | 第155-156页 |
获奖 | 第156-157页 |
致谢 | 第157-158页 |
声明 | 第158页 |