大口径高精度光学元件数控抛光技术研究
| 第一章 绪论 | 第1-16页 |
| ·研究背景 | 第9-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-16页 |
| 第二章 CCOS抛光理论 | 第16-28页 |
| ·光学玻璃的抛光机理 | 第16-18页 |
| ·CCOS技术的理论基础 | 第18-26页 |
| ·普林斯顿(Preston)假设 | 第18-19页 |
| ·CCOS技术的基本原理 | 第19页 |
| ·材料去除数学模型 | 第19-22页 |
| ·去除函数R(x，y)的特性 | 第22-24页 |
| ·驻留函数D(x，y) | 第24-26页 |
| ·本章小节 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 平面数控抛光技术 | 第28-49页 |
| ·试验设备介绍 | 第28-30页 |
| ·机床的技术特性 | 第28-29页 |
| ·机床控制系统和软件 | 第29-30页 |
| ·抛光模型 | 第30-32页 |
| ·工艺程序设计 | 第32-43页 |
| ·俄罗斯AD1000机床原有的控制文件生成程序 | 第32-35页 |
| ·利用ACAD的半自动控制文件生成程序 | 第35-36页 |
| ·直接使用WYKO干涉仪文本输出自动生成控制文件 | 第36-43页 |
| ·高径厚比透射窗口试验 | 第43-47页 |
| ·传统加工过程中装夹变形的影响 | 第43-44页 |
| ·数控加工过程中装夹变形的影响 | 第44-45页 |
| ·实验过程、结果和收敛效率 | 第45-47页 |
| ·实验分析 | 第47页 |
| ·本章小节 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第四章 随机波前校正板数控抛光技术 | 第49-57页 |
| ·数控抛光加工实现波前畸变校正的过程 | 第49-50页 |
| ·波前畸变的合成模型 | 第50-51页 |
| ·波前畸变的表示形式 | 第50页 |
| ·波前畸变的合成想法 | 第50-51页 |
| ·矩阵大小变换插值算法 | 第51页 |
| ·波前畸变合成的编程 | 第51-52页 |
| ·程序的输入，输出和主要功能 | 第51-52页 |
| ·解读WYKO干涉仪波前数据矩阵 | 第52页 |
| ·实验方案设计 | 第52-53页 |
| ·实验过程和结果 | 第53-54页 |
| ·分析和结论 | 第54-55页 |
| ·本章小节 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第五章 方形非球面聚焦透镜数控抛光技术 | 第57-78页 |
| ·方形非球面聚焦透镜介绍 | 第57页 |
| ·实验设备介绍 | 第57-61页 |
| ·AD450抛光机床 | 第57-58页 |
| ·检测系统 | 第58-61页 |
| ·非球面透镜检测过程中出现的问题 | 第61-65页 |
| ·检测误差与加工误差的分离的基本思想 | 第61页 |
| ·元件光轴与干涉仪光轴不同轴，但过光路的会聚点 | 第61-62页 |
| ·元件光轴不过光路的会聚点 | 第62-63页 |
| ·元件测量中焦点的选择 | 第63-65页 |
| ·抛光中的加工方式和机床控制 | 第65-67页 |
| ·镜面理论分析与数值计算 | 第67-69页 |
| ·程序设计 | 第69-71页 |
| ·干涉检测结果到加工机床控制程序的生成过程 | 第69-70页 |
| ·检测与加工中的位置对应 | 第70-71页 |
| ·实验中应考虑的问题 | 第71-72页 |
| ·聚焦靶镜的机床装夹 | 第71页 |
| ·工艺程序的改进 | 第71-72页 |
| ·实验与分析 | 第72-76页 |
| ·第一轮实验 | 第72-73页 |
| ·第二轮实验 | 第73-74页 |
| ·第三轮实验 | 第74-75页 |
| ·粗糙度结果 | 第75页 |
| ·对检测结果的讨论 | 第75-76页 |
| ·本章小节 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 第六章 总结 | 第78-81页 |
| 声明 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表和完成文章以及科研工作情况 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
