| 第一章 概述 | 第1-19页 |
| 1-1 超导材料研究的现状和意义 | 第6-10页 |
| 1-2 高温超导薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| 1-3 双面、大面积超导薄膜的制备方法 | 第12-15页 |
| 1-4 高温超导薄膜国内外研究现状 | 第15-17页 |
| 1-5 本论文研究的目的、内容和目标 | 第17-19页 |
| 第二章 实验基本原理及实验装置的设计 | 第19-35页 |
| 2-1 直流溅射原理及溅射装置简介 | 第19-23页 |
| 2．1．1 直流溅射原理 | 第19-20页 |
| 2．1．2 倒筒式直流磁控溅射法简介 | 第20-23页 |
| 2-2 加热器系统、基片夹具及旋转系统 | 第23-27页 |
| 2．2．1 加热器设计 | 第23-26页 |
| 2．2．2 基片夹具的设计 | 第26页 |
| 2．2．3 基片旋转系统的设计 | 第26-27页 |
| 2-3 衬底基片的选择与清洗 | 第27-30页 |
| 2．3．1 衬底基片的选择 | 第27-29页 |
| 2．3．2 基片的清洗 | 第29页 |
| 2．3．3 热处理方法的选择 | 第29-30页 |
| 2-4 YBCO薄膜的性能测试和微观分析 | 第30-35页 |
| 第三章 小面积双面YBCO超导薄膜的制备 | 第35-48页 |
| 3-1 引言 | 第35页 |
| 3-2 双面YBCO超导薄膜制备工艺及溅射条件 | 第35-37页 |
| 3-3 实验结果及分析讨论 | 第37-47页 |
| 3．3．1 基片温度Ts对薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| 3．3．2 靶基距对成膜的影响 | 第40-41页 |
| 3．3．3 溅射气体总压、氧分压、热处理过程对薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| 3．3．4 薄膜双面一致性讨论 | 第44-47页 |
| 3-4 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 大面积双面YBCO双面超导薄膜的研制 | 第48-59页 |
| 4-1 引言 | 第48-49页 |
| 4-2 具体实验方法 | 第49-50页 |
| 4-3 实验结果与分析讨论 | 第50-58页 |
| 4．3．1 温度均匀性分析 | 第50-51页 |
| 4．3．2 大面积薄膜膜厚均匀性分析 | 第51-55页 |
| 4．3．3 大面积薄膜超导转变温度及微波表面电阻分析 | 第55-58页 |
| 4-4 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 大功率高温超导微波谐振器Disk Resonator研制 | 第59-76页 |
| 5-1 引言 | 第59-60页 |
| 5-2 基本原理及发展现状 | 第60-64页 |
| 5．2．1 传统结构的平面微带线、带状线器件 | 第60-61页 |
| 5．2．2 宽刻蚀线条平面微带线滤波器及Back-Side耦合方式 | 第61-62页 |
| 5．2．3 圆片状谐振器（Disk Resonator） | 第62-64页 |
| 5-3 实验过程 | 第64-67页 |
| 5．3．1 YBCO薄膜的光刻工艺 | 第64-65页 |
| 5．3．2 谐振器基本结构 | 第65页 |
| 5．3．3 Disk Resonator性能测试 | 第65-67页 |
| 5-4 Disk Resonator设计结果分析 | 第67-75页 |
| 5．4．1 光刻工艺讨论及光刻前后薄膜性能分析 | 第67-70页 |
| 5．4．2 谐振模式和谐振频率理论分析 | 第70-73页 |
| 5．4．3 无载品质因子Q_0分析 | 第73-75页 |
| 5．4．4 输入输出耦合讨论 | 第75页 |
| 5-5 小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 在读期间发表的论文 | 第81页 |
