| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·ZrW_2O_8及ZrW_2O_8/Cu复合材料 | 第10-13页 |
| ·ZrW_2O_8的负热膨胀性质及应用 | 第10-13页 |
| ·ZrW_2O_8/Cu复合材料及薄膜的研究现状 | 第13页 |
| ·梯度薄膜的发展及其制备方法 | 第13-22页 |
| ·梯度薄膜的发展 | 第13-14页 |
| ·梯度薄膜的制备方法 | 第14-22页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第22-24页 |
| ·射频磁控溅射技术简介 | 第22-24页 |
| ·射频磁控溅射的优点 | 第24页 |
| ·本课题的研究目的及内容 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第二章 靶材与梯度薄膜制备 | 第26-38页 |
| ·靶材的制备 | 第26-30页 |
| ·靶材的常用制备方法介绍 | 第26-28页 |
| ·本实验靶材制备 | 第28-29页 |
| ·靶材物相分析 | 第29-30页 |
| ·梯度薄膜溅射工艺制定 | 第30-31页 |
| ·梯度薄膜制备 | 第31-35页 |
| ·梯度薄膜沉积系统介绍 | 第31页 |
| ·梯度薄膜制备 | 第31-33页 |
| ·沉积态薄膜的物相分析 | 第33-34页 |
| ·沉积态薄膜的形貌分析 | 第34-35页 |
| ·梯度薄膜的后处理 | 第35页 |
| ·梯度薄膜热处理晶化 | 第35页 |
| ·梯度薄膜还原处理 | 第35页 |
| ·纯铜薄膜的制备与分析 | 第35-37页 |
| ·纯铜薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·纯铜薄膜的物相分析 | 第36页 |
| ·纯铜薄膜的形貌分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 梯度薄膜的物相、形貌及成分分析 | 第38-47页 |
| ·物相检测与分析 | 第38-40页 |
| ·形貌检测与分析 | 第40-43页 |
| ·未热处理薄膜与晶态薄膜AFM检测与分析 | 第40-41页 |
| ·SEM检测与分析 | 第41-43页 |
| ·深度方向成分检测与分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 梯度薄膜结合性能和导电性能研究 | 第47-56页 |
| ·梯度薄膜结合性能研究 | 第47-50页 |
| ·梯度薄膜结合力测定方法介绍 | 第47-48页 |
| ·梯度薄膜结合力测定 | 第48-50页 |
| ·梯度薄膜结合力分析 | 第50页 |
| ·梯度薄膜导电性能研究 | 第50-55页 |
| ·梯度薄膜导电系数测定方法介绍 | 第52-53页 |
| ·梯度薄膜导电系数测定 | 第53-54页 |
| ·薄膜导电性能分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 ZrW_2O_8/Cu复合薄膜的生长机理 | 第56-58页 |
| ·复合薄膜生长过程 | 第56-57页 |
| ·复合薄膜热处理时的结构变化 | 第57页 |
| ·复合薄膜还原处理时的结构变化 | 第57-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |