钒氧化物薄膜制备工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-37页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·钒及其氧化物 | 第10-16页 |
| ·钒 | 第10-11页 |
| ·钒的氧化物 | 第11-16页 |
| ·五氧化二钒和二氧化钒薄膜材料的性质 | 第16-23页 |
| ·五氧化二钒薄膜 | 第16-18页 |
| ·二氧化钒薄膜 | 第18-23页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第23-30页 |
| ·磁控溅射及反应溅射 | 第24-25页 |
| ·真空蒸镀 | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第25-27页 |
| ·气相沉积法 | 第27页 |
| ·反应蒸发法 | 第27-28页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第28-29页 |
| ·二氧化钒薄膜制备技术的比较 | 第29-30页 |
| ·溶胶—凝胶(sol-gel)法 | 第30-34页 |
| ·溶胶原理和溶胶制备 | 第31-32页 |
| ·凝胶原理及凝胶制备 | 第32页 |
| ·凝胶的干燥和热处理 | 第32-33页 |
| ·薄膜的附着类型和影响附着因素简述 | 第33页 |
| ·溶胶-凝胶薄膜制备工艺的应用 | 第33-34页 |
| ·国内外研究进展 | 第34-35页 |
| ·本课题研究意义和内容 | 第35-37页 |
| 第二章 实验探索及实验过程 | 第37-54页 |
| ·实验原料及仪器设备 | 第37-39页 |
| ·实验原料 | 第37页 |
| ·实验设备及分析仪器 | 第37-38页 |
| ·自建设备 | 第38-39页 |
| ·实验方案的讨论与选择 | 第39-41页 |
| ·V_2O_5溶胶制备方案的选择 | 第39页 |
| ·衬底的选择 | 第39-40页 |
| ·V_2O_5湿凝胶膜镀膜方法的选择 | 第40页 |
| ·V_2O_5薄膜制备工艺的选择 | 第40-41页 |
| ·VO_2薄膜制备工艺的选择 | 第41页 |
| ·实验过程 | 第41-43页 |
| ·衬底的处理 | 第41-42页 |
| ·V_2O_5水溶胶的制备 | 第42页 |
| ·V_2O_5干凝胶的制备 | 第42页 |
| ·V_2O_5薄膜的制备 | 第42页 |
| ·VO_2薄膜的制备 | 第42-43页 |
| ·样品表征和性能测试 | 第43-49页 |
| ·XRD分析 | 第43-44页 |
| ·电阻温度曲线(R-T)测试 | 第44-45页 |
| ·红外光谱分析 | 第45-46页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第46-47页 |
| ·扫描电镜分析 | 第47-49页 |
| ·样品汇总表 | 第49-52页 |
| ·实验过程中需要注意的问题 | 第52-54页 |
| 第三章 实验结果分析与讨论 | 第54-73页 |
| ·薄膜样品的XRD图谱分析 | 第54-66页 |
| ·V_2O_5干凝胶膜XRD分析 | 第54页 |
| ·V_2O_5薄膜XRD分析 | 第54-56页 |
| ·VO_2薄膜的XRD分析 | 第56-66页 |
| ·薄膜样品金相显微分析 | 第66-69页 |
| ·V_2O_5薄膜金相显微分析 | 第66-67页 |
| ·VO_2薄膜金相显微分析 | 第67-69页 |
| ·VO_2薄膜R-T分析 | 第69-70页 |
| ·VO_2薄膜的XPS分析 | 第70-73页 |
| ·XPS成份分析 | 第70-71页 |
| ·XPS窄程扫描分析 | 第71-73页 |
| 第四章 低相变点钒氧化物薄膜初步探索研究 | 第73-79页 |
| ·低相变点钒氧化物薄膜物相分析 | 第73-74页 |
| ·低相变点钒氧化物薄膜电学性能分析 | 第74-75页 |
| ·低相变点钒氧化物薄膜光学性能分析 | 第75页 |
| ·低相变点钒氧化物薄膜SEM及能谱分析 | 第75-76页 |
| ·低相变点钒氧化物薄膜XPS分析 | 第76-79页 |
| 第五章 结论 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 附录A (攻读硕士期间发表论文情况) | 第86页 |
